[发明专利]一种抑制微像素LCOS的边缘效应的垂直电极在审

专利信息
申请号: 202110996717.6 申请日: 2021-08-27
公开(公告)号: CN113791509A 公开(公告)日: 2021-12-14
发明(设计)人: 张亚萍;郭胤初 申请(专利权)人: 昆明理工大学
主分类号: G02F1/1343 分类号: G02F1/1343
代理公司: 北京棘龙知识产权代理有限公司 11740 代理人: 张开
地址: 650000 云*** 国省代码: 云南;53
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 抑制 像素 lcos 边缘 效应 垂直 电极
【说明书】:

发明公开一种抑制微像素LCOS的边缘效应的垂直电极,属于硅基液晶空间光调制器设计技术领域。本发明所述电极为垂直结构,该液晶系统由玻璃基底,像素电极,感应导体,液晶和硅基底组成;由于垂直电极结构特殊的电极排布,使LCOS在通电工作状态下,相邻像素间的电场成水平,边缘电场的垂直分量得到了很好的抑制。通过软件仿真的仿真结果表明:垂直电极结构下LCOS像素间的边缘场得到最好的抑制效果。

技术领域

本发明涉及一种抑制微像素LCOS的边缘效应的垂直电极,属于硅基液晶空间光调制器设计技术领域。

背景技术

硅基液晶空间光调制器(liquid crystal on silicon,LCOS)是一种在单晶硅上制作的反射式液晶空间光调制器;LCOS的电极底板是用单晶硅做成的,不同于一般的有源像素,TFT结构设计在像素中间,LCOS的驱动电路集成在像素背后的硅基底中,可实现90%以上的像素填充率,增加了光学效率。入射光在反射式器件中所走的光程是通过透射式器件的一倍,反射式器件对入射光的相位调制量相同时,液晶层的厚度只需透射式器件的一半,降低了LCOS器件中所需的液晶层厚度;液晶层厚度降低,液晶装置的响应速度会得到提高,同时减小了边缘电场的畸变效应;对于全息显示技术来说,再现像拥有可满足观察的视场角是必要的,当前的LCOS的全息再现像的视场角仅能达到4.8o,观察者需要正对LCOS屏幕才能看清再现像;由光栅的性质可知,减小LCOS的像素尺寸可增大再现像的视场角;而缩小LCOS的像素之后又会在相邻像素间产生边缘电场。

边缘电场是指电极间的电场并不仅仅垂直分布在电极覆盖区域内,而是有部分电场遗漏入电极之外。边缘电场使LCOS中相邻像素电极间的液晶分子排布产生紊乱,最终影响全息再现效果。通过改变像素电极排布结构可消除微小像素电极的LCOS产生的边缘场效应,对于增大LCOS的全息再现视场角来说是一个直接方法。经过理论推导,像素大小达到纳米级时,再现视场角可增大到60o,当像素大小降低时边缘场问题比较严重,降低了LCOS的衍射效率,使再现像像质模糊。

发明内容

为了消除LCOS器件中的边缘场效应,解决基于LCOS的全息再现技术存在的再现视场角不足,以及再现像像质模糊等问题,本发明提出了一种LCOS的电极排布结构,经过模拟仿真的验证,能够确切对LCOS相邻像素电极间的边缘电场进行抑制,为大视场角全息显示的LCOS器件提供了依据。

本发明通过以下技术方案实现:

一种抑制微像素LCOS边缘效应的垂直电极,所述垂直电极分为三层,第一层包括玻璃基底1、透明电极Ⅰ2、透明电极Ⅱ3、透明电极Ⅲ4、感应导体Ⅰ5、感应导体Ⅱ6,在玻璃基底1下面设有透明电极Ⅰ2、透明电极Ⅱ3、透明电极Ⅲ4,在透明电极Ⅰ2和透明电极Ⅱ3之间插入感应导体Ⅰ5,在透明电极Ⅱ3和透明电极Ⅲ4之间插入感应导体Ⅱ6,其中,透明电极Ⅰ2和透明电极Ⅲ4作为寻址电极,透明电极Ⅱ3作为接地电极;第二层是液晶层7,在两板之间填入液晶;第三层包括硅基底13、反射电极材Ⅰ8、反射电极材Ⅱ9、反射电极材Ⅲ10、感应导体Ⅲ11、感应导体Ⅳ12,在硅基底13上设有反射电极材Ⅰ8、反射电极材Ⅱ9、反射电极材Ⅲ10,反射电极材Ⅰ8和反射电极材Ⅱ9之间设有感应导体Ⅲ11,反射电极材Ⅱ9和反射电极材Ⅲ10之间设有感应导体Ⅳ12;反射电极材Ⅰ8和反射电极材Ⅲ10作为接地电极,反射电极材Ⅱ9作为寻址电极;在工作时,寻址电极透明电极Ⅰ2、透明电极Ⅲ4、反射电极材Ⅱ9接入计算机显卡输入信号电压,与接地电极透明电极Ⅱ3、反射电极材Ⅰ8、反射电极材Ⅲ10相对,产生驱动电压。

优选的,本发明所述上基板选用可透光的玻璃基板,下基板选用稳定不透光的硅基板。

优选的,本发明所述透明电极Ⅰ2、透明电极Ⅱ3、透明电极Ⅲ4选用氧化铟锡,感应导体Ⅰ5、感应导体Ⅱ6选用氧化铟锡,因为氧化铟锡ITO同时具有导电和透光两种性质。

优选的,本发明所述液晶层7中填入的液晶为E7液晶,E7液晶水平介电常数与垂直介电常数差值较大,因此驱动电压不必太高。而且具有较好的相对折射率,对入射光的相位调制量较高。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆明理工大学,未经昆明理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110996717.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top