[发明专利]显示面板和显示装置在审

专利信息
申请号: 202110989462.0 申请日: 2021-08-26
公开(公告)号: CN115734686A 公开(公告)日: 2023-03-03
发明(设计)人: 齐璞玉;鲍建东 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H10K59/38 分类号: H10K59/38;H10K59/12;H10K59/40;H10K50/86
代理公司: 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 代理人: 吴梅英
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 面板 显示装置
【说明书】:

发明涉及一种显示面板和显示装置。所述显示面板包括:衬底、反射层与滤光层。反射层位于衬底上;滤光层位于反射层远离衬底的一侧;滤光层包括黑矩阵、第一黑矩阵开口与灰色滤光层,反射层在衬底上的投影位于黑矩阵在衬底上的投影内;灰色滤光层部分位于第一黑矩阵开口中,第一黑矩阵开口在衬底上的投影位于灰色滤光层在衬底上的投影内;第一黑矩阵开口在衬底上的投影位于第一显示区,灰色滤光层在衬底上的投影位于第一显示区。根据本发明的实施例,可以实现透光功能,同时可以降低第一显示区的反射率,并使第一显示区的反射色相实现一体黑,避免色偏现象。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示面板和显示装置。

背景技术

相关技术中,显示装置的屏占比的要求越来越高,由于水滴屏、刘海屏等异形屏幕带给用户的观感不佳,因此,屏下摄像的技术方案应运而生。在该方案中,显示面板包括一个既可以实现显示功能,又可以实现透光功能的第一显示区,还包括一个仅实现显示功能的第二显示区。在第一显示区的下方,可以设置摄像装置用于采集图像。

发明内容

本发明提供一种显示面板和显示装置,以解决相关技术中的不足。

根据本发明实施例的第一方面,提供一种显示面板,形成有第一显示区,所述显示面板包括:

衬底,

反射层,位于所述衬底上;

滤光层,位于所述反射层远离所述衬底的一侧;所述滤光层包括黑矩阵、第一黑矩阵开口与灰色滤光层,所述反射层在所述衬底上的投影位于所述黑矩阵在所述衬底上的投影内;所述灰色滤光层部分位于所述第一黑矩阵开口中,所述第一黑矩阵开口在所述衬底上的投影位于所述灰色滤光层在所述衬底上的投影内;所述第一黑矩阵开口在所述衬底上的投影位于所述第一显示区,所述灰色滤光层在所述衬底上的投影位于所述第一显示区。

在一个实施例中,所述灰色滤光层对不同颜色的光的透过率大致相同。

在一个实施例中,所述灰色滤光层对450nm、550nm、650nm三个波段的光的透过率中两两比值均位于0.8~1.2之间。

在一个实施例中,所述灰色滤光层对波长为400nm~700nm的光的透过率位于45%~70%之间。

在一个实施例中,位于不同所述第一黑矩阵开口中的所述灰色滤光层之间存在间隔。

在一个实施例中,位于相邻两个所述第一黑矩阵开口中的所述灰色滤光层之间连续,位于相邻两个所述第一黑矩阵开口之间的黑矩阵被所述灰色滤光层覆盖;

相邻的两个所述第一黑矩阵开口以及相邻的两个所述第一黑矩阵开口之间的黑矩阵在所述衬底上的投影位于所述灰色滤光层在衬底上的投影内。

在一个实施例中,所述显示面板还包括发光层与像素界定层,所述像素界定层位于所述衬底与所述滤光层之间,所述像素界定层包括像素界定层开口;

所述发光层位于所述衬底与所述滤光层之间,所述发光层包括至少一个子像素,每个所述子像素包括第一电极与有机发光层,所述有机发光层位于所述第一电极靠近所述滤光层的一侧;所述像素界定层位于所述第一电极靠近所述滤光层的一侧;所述有机发光层至少部分位于所述像素界定层开口中;

所述第一电极包括有效部与无效部,所述有效部与所述有机发光层接触,所述无效部与所述像素界定层接触,所述无效部为所述反射层的一部分。

在一个实施例中,所述黑矩阵包括第一遮光部,所述第一遮光部在所述衬底上的投影覆盖所述无效部在所述衬底上的投影;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110989462.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top