[发明专利]一种去遮挡物的方法及装置在审

专利信息
申请号: 202110987947.6 申请日: 2021-08-26
公开(公告)号: CN113674178A 公开(公告)日: 2021-11-19
发明(设计)人: 苏安炀;刘星;唐大闰 申请(专利权)人: 上海明略人工智能(集团)有限公司
主分类号: G06T5/00 分类号: G06T5/00;G06N3/04
代理公司: 成都众恒智合专利代理事务所(普通合伙) 51239 代理人: 刘沁
地址: 200030 上海市徐汇区*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 遮挡 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种去遮挡物的方法,其特征在于,包括:

获取待处理人脸图像以及所述待处理人脸图像的关键点坐标,所述待处理人脸图像包括有遮挡物的人脸图像和无遮挡人脸图像;

将所述待处理人脸图像以及所述待处理人脸图像的关键点坐标作为输入,输入至预设GAN模型中进行去遮挡物处理,得到去除遮挡物的人脸图像;

将所述去除遮挡物的人脸图像依据所述待处理人脸图像的关键点坐标生成对应的去遮挡物的图像。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述获取待处理人脸图像以及所述待处理人脸图像的关键点坐标,包括:

获取待处理图片,并对所述待处理图片进行人脸检测,得到待处理人脸图片,所述待处理图片包括:有遮挡物的人脸图片和无遮挡人脸图片;

对所述待处理人脸图片进行关键点检测,确定所述待处理人脸图片中的人脸关键点位置。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,对所述待处理图片进行人脸检测,包括:

将所述待处理图片输入至人脸检测模型中,确定所述待处理图片中的两个顶点的坐标,生成检测框;

根据预设参数对所述检测框进行边框扩展,当检测到多个人脸区域时,则确定所述检测框面积最大的检测框为所述待处理图片的人脸区域,并记录所述检测框裁剪的人脸顶点在原始图片中的坐标。

4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述对所述待处理人脸图片进行关键点检测,确定所述待处理人脸图片中的人脸关键点位置,包括:

对所述待处理人脸图片进行关键点检测,并记录预设数量的关键点坐标;

依据预设数量的所述关键点坐标根据几何学计算人脸的倾斜角度,所述人脸的倾斜角度包括俯仰角、偏航角和滚动角;

当所述人脸的倾斜角度大于阈值时,则确定所述待处理人脸图片不满足去遮挡物条件,反馈无法去遮挡的说明;

当所述人脸的倾斜角度小于阈值时,则确定所述待处理人脸图片满足去遮挡物条件,根据预设数量的所述关键点坐标确定所述待处理人脸图片中的人脸关键点位置。

5.一种去遮挡物的装置,其特征在于,包括:

第一处理单元,用于获取待处理人脸图像以及所述待处理人脸图像的关键点坐标,所述待处理人脸图像包括有遮挡物的人脸图像和无遮挡人脸图像;

第二处理单元,用于将所述待处理人脸图像以及所述待处理人脸图像的关键点坐标作为输入,输入至预设GAN模型中进行去遮挡物处理,得到去除遮挡物的人脸图像;

第三处理单元,用于将所述去除遮挡物的人脸图像依据所述待处理人脸图像的关键点坐标生成对应的去遮挡物的图像。

6.根据权利要求5所述的装置,其特征在于,所述第一处理单元具体用于:

获取待处理图片,并对所述待处理图片进行人脸检测,得到待处理人脸图片,所述待处理图片包括:有遮挡物的人脸图片和无遮挡人脸图片;

对所述待处理人脸图片进行关键点检测,确定所述待处理人脸图片中的人脸关键点位置。

7.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述第一处理单元具体用于:

将所述待处理图片输入至人脸检测模型中,确定所述待处理图片中的两个顶点的坐标,生成检测框;

根据预设参数对所述检测框进行边框扩展,当检测到多个人脸区域时,则确定所述检测框面积最大的检测框为所述待处理图片的人脸区域,并记录所述检测框裁剪的人脸顶点在原始图片中的坐标。

8.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述第一处理单元具体用于:

对所述待处理人脸图片进行关键点检测,并记录预设数量的关键点坐标;

依据预设数量的所述关键点坐标根据几何学计算人脸的倾斜角度,所述人脸的倾斜角度包括俯仰角、偏航角和滚动角;

当所述人脸的倾斜角度大于阈值时,则确定所述待处理人脸图片不满足去遮挡物条件,反馈无法去遮挡的说明;

当所述人脸的倾斜角度小于阈值时,则确定所述待处理人脸图片满足去遮挡物条件,根据预设数量的所述关键点坐标确定所述待处理人脸图片中的人脸关键点位置。

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