[发明专利]一种大视场双光子扫描和成像装置

权利要求书

1.一种大视场双光子扫描和成像装置，其特征在于，所述装置包括激光器(1)、反射镜组、二向色镜(5)、二维振镜、扫描透镜(8)、用于放置样品的样品台(9)、反射镜四(10)和光电倍增管(13)，所述激光器(1)、反射镜组、二向色镜(5)、二维振镜和扫描透镜(8)依次放置组成第一光路，所述扫描透镜(8)、二维振镜、二向色镜(5)、反射镜四(10)和光电倍增管(13)依次放置组成第二光路，所述激光器(1)位于反射镜组入射光束的光轴上，所述反射镜组位于二向色镜(5)入射光束的光轴上，所述二维振镜位于二向色镜(5)反射光束的光轴上，所述反射镜组和二维振镜位于二向色镜(5)的同侧，所述扫描透镜(8)位于二维振镜反射光束的光轴上，所述样品位于扫描透镜(8)的焦点处，所述反射镜四(10)和二维振镜分别位于二向色镜(5)的两侧，所述反射镜四(10)位于二向色镜(5)透射光束的光轴上，所述光电倍增管(13)位于反射镜四(10)反射光束的光轴上；

所述反射镜组包括反射镜一(2)、反射镜二(3)和反射镜三(4)，所述激光器(1)位于反射镜一(2)入射光束的光轴上，所述反射镜二(3)位于反射镜一(2)反射光束的光轴上，所述反射镜三(4)位于反射镜二(3)反射光束的光轴上，所述反射镜三(4)位于二向色镜(5)入射光束的光轴上；

所述二维振镜包括独立的X振镜(6)和Y振镜(7)，所述二向色镜(5)位于X振镜(6)入射光束的光轴上，所述Y振镜(7)位于X振镜(6)反射光束的光轴上。

2.根据权利要求1所述的一种大视场双光子扫描和成像装置，其特征在于，所述反射镜二(3)、反射镜三(4)、二向色镜(5)、X振镜(6)和反射镜四(10)相平行，所述反射镜一(2)和Y振镜(7)相平行。

3.根据权利要求1所述的一种大视场双光子扫描和成像装置，其特征在于，所述反射镜四(10)和光电倍增管(13)之间设有滤光片(12)。

4.根据权利要求3所述的一种大视场双光子扫描和成像装置，其特征在于，所述反射镜四(10)和滤光片(12)之间设有透镜二(11)。

5.根据权利要求3所述的一种大视场双光子扫描和成像装置，其特征在于，所述滤光片(12)为750nm的短通滤光片。

6.根据权利要求1所述的一种大视场双光子扫描和成像装置，其特征在于，所述装置还包括计算机和数据采集卡，所述计算机通过数据采集卡分别和二维振镜及光电倍增管(13)进行电连接。

7.根据权利要求1所述的一种大视场双光子扫描和成像装置，其特征在于，所述激光器(1)采用飞秒激光器。

8.根据权利要求1所述的一种大视场双光子扫描和成像装置，其特征在于，所述二向色镜(5)为745nm的短波通二向色镜。