[发明专利]一种建筑陶瓷砖表面装饰施釉的数据分析预测方法及系统有效

专利信息
申请号: 202110963561.1 申请日: 2021-08-20
公开(公告)号: CN113554240B 公开(公告)日: 2022-06-10
发明(设计)人: 白梅;陈淑琳;姚青山;聂贤勇;卢秋萍;刘伟 申请(专利权)人: 西藏众陶联供应链服务有限公司
主分类号: G06Q10/04 分类号: G06Q10/04;G06Q50/04;G06Q50/08;G06F16/215;G06K9/62
代理公司: 佛山市禾才知识产权代理有限公司 44379 代理人: 资凯亮;陆应健
地址: 851600 西藏自治区拉萨*** 国省代码: 西藏;54
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摘要:
搜索关键词: 一种 建筑 陶瓷砖 表面 装饰 数据 分析 预测 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种建筑陶瓷砖表面装饰施釉的数据分析预测方法,其特征在于:包括以下步骤:

获取产线的施釉工艺数据和产线最后工序分级检测的缺陷数据;

分类所述施釉工艺数据,划分出施釉工艺参数项和缺陷检测参数项;

统计分析所述施釉工艺数据,得到面釉左中右重量的标准差和抛釉左中右重量的标准差,并对所述施釉工艺数据进行清理和清洗;

基于SMOTE采样技术对清洗后的所述施釉工艺数据进行过采样,得到施釉样本库;

根据所述施釉工艺参数项和所述缺陷参数项,建立出Xgboost分类模型,并利用所述施釉样本库对所述Xgboost分类模型进行训练,导出最优的所述Xgboost分类模型用于预测当前釉线会出现的缺陷;所述Xgboost分类模型为:向Xgboost分类模型输入参数X:面釉水量、面釉砖面温度、面釉流速、面釉比重、面釉釉量、第一钟罩左釉量、第一钟罩中釉量、第一钟罩右釉量、抛釉砖面温度、抛釉流速、抛釉比重、抛釉釉量、第二钟罩左釉量、第二钟罩中釉量和第二钟罩右釉量;Xgboost分类模型则输出参数Y:面釉砖面有无残留、面釉有无磨去砖边、面釉有无凹釉、面釉有无拉丝、面釉有无缩釉、抛釉砖面有无残留、抛釉有无磨去砖边、抛釉有无凹釉、抛釉有无拉丝和抛釉有无缩釉;

根据产线最后工序分级检测的缺陷数据,统计出釉线缺陷细项,对每一个所述釉线缺陷细项再进行分级,得到详细分级数据;

根据所述详细分级数据,计算出釉线每小时缺陷率;

按时间关联所述施釉工艺数据和所述详细分级数据,通过所述施釉工艺参数项、所述面釉左中右重量的标准差、所述抛釉左中右重量的标准差以及所述釉线每小时缺陷率,建立Xgboost回归模型,并利用所述施釉样本库对Xgboost回归模型进行训练,导出最优的所述Xgboost回归模型用于预测整线的釉线每小时缺陷率;所述Xgboost回归模型为:向Xgboost回归模型输入参数X:面釉水量、面釉砖面温度、面釉流速、面釉比重、面釉釉量、第一钟罩左釉量、第一钟罩中釉量、第一钟罩右釉量、面釉左中右重量的标准差、抛釉砖面温度、抛釉流速、抛釉比重、抛釉釉量、第二钟罩左釉量、第二钟罩中釉量、第二钟罩右釉量和抛釉左中右重量的标准差;Xgboost回归模型则输出参数Y:釉线每小时缺陷率;

对最优的所述Xgboost回归模型进行特征重要性分析,分析出各工序对釉线每小时缺陷率的重要性。

2.根据权利要求1所述的一种建筑陶瓷砖表面装饰施釉的数据分析预测方法,其特征在于:所述施釉工艺数据包括面釉工艺数据和抛釉工艺数据;

所述面釉工艺数据包括:

可控参数:面釉水量、面釉砖面温度、面釉流速、面釉比重、面釉釉量;

不可控参数:面釉日期、面釉时间、面釉班次、面釉规格、面釉编号、面釉接班存砖、面釉交班存砖;

目标变量:第一钟罩左釉量、第一钟罩中釉量、第一钟罩右釉量、面釉砖面有无残留、面釉有无磨去砖边、面釉有无凹釉、面釉有无拉丝、面釉有无缩釉;

所述抛釉工艺数据包括:

可控参数:抛釉砖面温度、抛釉流速、抛釉比重、抛釉釉量;

不可控参数:抛釉日期、抛釉时间、抛釉班次、抛釉规格、抛釉编号、抛釉接班存砖、抛釉交班存砖;

目标变量:第二钟罩左釉量、第二钟罩中釉量、第二钟罩右釉量、抛釉砖面有无残留、抛釉有无磨去砖边、抛釉有无凹釉、抛釉有无拉丝、抛釉有无缩釉。

3.根据权利要求2所述的一种建筑陶瓷砖表面装饰施釉的数据分析预测方法,其特征在于:

将面釉水量、面釉砖面温度、面釉流速、面釉比重、面釉釉量、第一钟罩左釉量、第一钟罩中釉量、第一钟罩右釉量、抛釉砖面温度、抛釉流速、抛釉比重、抛釉釉量、第二钟罩左釉量、第二钟罩中釉量和第二钟罩右釉量划分为所述施釉工艺参数项;

将面釉砖面有无残留、面釉有无磨去砖边、面釉有无凹釉、面釉有无拉丝、面釉有无缩釉、抛釉砖面有无残留、抛釉有无磨去砖边、抛釉有无凹釉、抛釉有无拉丝、抛釉有无缩釉调整为布尔变量,并划分为所述缺陷检测参数项。

4.根据权利要求1所述的一种建筑陶瓷砖表面装饰施釉的数据分析预测方法,其特征在于:统计分析施釉工艺数据中,统计分析指标包括总数、最小值、最小值位置、25%分位数、中位数、75%分位数、均值、最大值、最大值位置、平均绝对偏差、方差、标准差、峰度和异常值。

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