[发明专利]磁控溅射设备

权利要求书

1.一种磁控溅射设备，其特征在于，包括：

旋转靶，包括第一靶材和第二靶材，所述第一靶材与所述第二靶材在第一方向上排列设置，所述第一靶材位于所述旋转靶的端部；

第一转动机构，连接于所述第一靶材，所述第一转动机构被配置为以第一线速度旋转所述第一靶材；以及

第二转动机构，连接于所述第二靶材，所述第二转动机构被配置为以第二线速度旋转所述第二靶材，所述第一线速度大于所述第二线速度；

其中，所述磁控溅射设备还包括套管，所述套管包括第一套管和第二套管，所述第一套管与所述第二套管在所述第一方向上排列设置，所述第一靶材套设并固定于所述第一套管上，所述第一转动机构连接于所述第一套管，所述第二靶材套设并固定于所述第二套管上，所述第二转动机构连接于所述第二套管，

所述第一转动机构设置于所述第一套管内，所述第一转动机构包括第一转轴和第一传动件，所述第一传动件连接于所述第一转轴与所述第一套管之间；所述第二转动机构设置于所述第二套管内，所述第二转动机构包括第二转轴和第二传动件，所述第二传动件连接于所述第二转轴与所述第二套管之间；

所述第一传动件包括第一齿轮和第二齿轮，所述第一齿轮套设于所述第一转轴上，所述第二齿轮设置于所述第一套管的内壁上，且与所述第一齿轮的外周啮合，所述第二传动件包括第三齿轮和第四齿轮，所述第三齿轮套设于所述第二转轴上，所述第四齿轮设置于所述第二套管的内壁上，且与所述第三齿轮的外周啮合，所述第一齿轮的直径大于所述第三齿轮的直径。

2.如权利要求1所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述套管内部具有腔体，所述磁控溅射设备还包括磁铁组件，所述磁铁组件设置于所述腔体内，所述磁铁组件包括磁铁和电机，所述磁铁与所述电机固定连接，所述电机被配置为使所述磁铁在所述腔体内运动。

3.如权利要求2所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述套管内壁上开设有导轨，所述导轨沿所述第一方向延伸，所述磁铁组件设置于所述导轨中，所述导轨的宽度大于所述磁铁的宽度。

4.如权利要求1所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述旋转靶还包括第三靶材和第三转动机构，所述第三靶材与所述第二靶材在所述第一方向上排列设置，所述第三靶材位于所述靶材的另一端部，所述第三转动机构连接于所述第三靶材。