[发明专利]一种铝镁合金镀膜方法

说明书

本发明公开了一种铝镁合金镀膜方法，涉及铝镁合金生产镀膜领域，包括以下步骤：采用相应设备进行铝镁合金镀膜，该设备包括进料室、镀膜室以及出料室，进料室向镀膜室进料，镀膜室向出料室下料，镀膜室内为真空状态，采用镀膜室的上下料同步进行的方式进行设备的铝镁合金上下料，镀膜室待上下料时，进料室、镀膜室以及出料室的真空状态相同，对进料室以及出料室内部有害物质预处理，接着对进料室上料以及出料室下料；本发明，使镀膜室内镀膜完毕的铝镁合金的排出以及需要镀膜的铝镁合金的放入同步进行，大大缩短了镀膜室更换铝镁合金的时间，提高了铝镁合金整体的生产加工效率避免了有害物质影响生产环境的问题。

技术领域

本发明属于铝镁合金生产镀膜领域，特别是涉及一种铝镁合金镀膜方法。

背景技术

镁铝合金是一种在铝合金中加入镁金属的合金，它有跟钢一样的强度和硬度，但重量却比钢轻得多，跟塑胶很接近，镁铝合金表面通常会进行镀膜处理。现在的镁铝合金的镀膜技术中，真空镀膜是一种由物理方法产生薄膜材料的技术，在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀的镁铝合金的表面上。

真空镀膜过程中，材料会从固体变成蒸汽状，在真空室内镀膜完毕的镁铝合金取出过程中，蒸汽状态的物质会扩散到外界环境中，既影响生产安全，同时不能对蒸汽状态的材料进行回收利用，会造成材料浪费，同时在对真空室内镀膜完毕的镁铝合金进行排出的过程以及向真空室内加入带镀膜的镁铝合金的过程耗时较长，会影响镁铝合金整体的镀膜加工时间。

因此，现有的真空镀膜技术对镁铝合金镀膜中，存在镀膜过程中产生的有害物质处理不便的问题，以及镀膜耗时长的问题，为此，我们提出一种铝镁合金镀膜方法。

发明内容

本发明的目的在于提供一种铝镁合金镀膜方法，可以有效解决背景技术中提出的现有的真空镀膜技术对镁铝合金镀膜中，存在的镀膜过程中产生的有害物质处理不便的问题，以及镀膜耗时长的问题。

为解决上述技术问题，本发明是通过以下技术方案实现的：

本发明为一种铝镁合金镀膜方法，包括以下步骤：

1.采用相应设备进行铝镁合金镀膜，该设备包括进料室、镀膜室以及出料室，进料室向镀膜室进料，镀膜室向出料室下料，镀膜室内为真空状态；

2.采用镀膜室的上下料同步进行的方式进行设备的铝镁合金上下料，镀膜室待上下料时，进料室、镀膜室以及出料室的真空状态相同；

3.对进料室以及出料室内部有害物质预处理，接着对进料室上料以及出料室下料。

具体步骤如下：

a.所述进料室、镀膜室之间以及出料室、出料室之间均通过密封门进行封闭，将所述镀膜室抽真空，向所述进料室内输送铝镁合金，将所述进料室内抽真空，打开所述进料室、镀膜室之间的密封门，将所述铝镁合金输送进镀膜室进行镀膜，封闭所述密封门，再向进料室内输送新的铝镁合金，重新抽真空；

b.所述镀膜室内铝镁合金镀膜完毕后打开进料室、镀膜室之间以及出料室、出料室之间的密封门，所述镀膜室内的铝镁合金输送进出料室，所述进料室内新的铝镁合金输送进镀膜室进行镀膜，关闭所述进料室、镀膜室之间以及出料室、出料室之间的密封门；

c.对所述进料室和出料室内的气体进行排出并净化处理后再对进料室进行进料，并对所述出料室进行出料。