[发明专利]一种基底材料及其制备方法

权利要求书

1.一种基底材料，其特征在于：

包括第一结构层，至少位于第一结构层一个表面的第二结构层，所述第二结构层包括

a）第一凸出部，所述第一凸出部沿着第二结构层的一个长度方向延伸；

b）具有与第一凸出部基本一致走向的，且与第一凸出部相邻的第一凹陷部；以及

c）分布于第一凸出部的若干孔洞；

其中第一凸出部的至少0.05％的孔洞与其相邻的第一凹陷部之间连通；

所述基底材料包括至少一种过渡金属、及相应过渡金属的氧化物；其中，所述第一结构层的过渡金属的含量至少为90%；所述第二结构层的过渡金属氧化物含量至少为30%。

2.根据权利要求1所述的基底材料，其特征在于：所述基底材料至少在一个方向上具有柔性；进行弯折时，具有不低于90°的弯曲角度。

3.根据权利要求1所述的基底材料，其特征在于：所述基底材料至少在一个方向上具有柔性；进行弯折时，具有不低于120°的弯曲角度。

4.根据权利要求1所述的基底材料，其特征在于：所述基底材料至少在一个方向上具有柔性；进行弯折时，具有接近180°的弯曲角度。

5.根据权利要求1~4任一所述的基底材料，其特征在于：所述基底材料具有不高于1 g/cm³的堆积密度。

6.根据权利要求1~4任一所述的基底材料，其特征在于：所述基底材料以过渡金属薄片为原料制备而成，所述过渡金属薄片的表面具有凹、凸条纹，所述凹、凸条纹的横截面具有纳米和/或微米级的宽度尺寸和深度尺寸。

7.根据权利要求6所述的基底材料，其特征在于：所述过渡金属薄片表面形成有过渡金属氧化物膜，并且具有与凹、凸条纹的走向一致的孔阵列；所述孔具有纳米和/或微米级的孔径。

8.根据权利要求7所述的基底材料，其特征在于：所述过渡金属氧化物膜以及孔，经由以下处理方式形成：对过渡金属薄片进行阳极氧化处理；

所述第二结构层经由以下处理形成：对所述具有过渡金属氧化物膜以及孔的过渡金属薄片，进行腐蚀化处理。

9.一种基底材料的制备方法，其特征在于：包括：

1）对过渡金属薄片进行阳极氧化处理，使其表面形成：沿条纹走向分布的、具有纳米级和/或微米级孔径的孔阵列；

其中，所述过渡金属薄片的表面具有凹、凸条纹，所述凹、凸条纹具有纳米和/或微米级尺寸的横截面；

2）对1）中所得材料进行腐蚀处理，使分布于凸条纹位置上的孔会与其临近的凹条纹之间发生连通，形成至少在一个方向上具有柔性的基底材料。

10.根据权利要求9所述的基底材料的制备方法，其特征在于：所述过渡金属薄片表面的凹、凸条纹包括：若干条走向一致或者基本一致的凸出条纹，相邻两凸出条纹之间形成凹条纹。

11.根据权利要求9所述的基底材料的制备方法，其特征在于：所述过渡金属薄片表面的凹、凸条纹包括：若干条互相平行或基本平行的凸出条纹，相邻两凸出条纹之间形成凹条纹；

和/或，所述表面的凸出条纹，是以过渡金属薄片为基本材料，经拉丝或者辊压形成。

12.根据权利要求9所述的基底材料的制备方法，其特征在于：若干条走向一致或者基本一致的凸出条纹，相邻两凸出条纹之间形成凹条纹；

和/或，所述表面的凸出条纹，是以过渡金属薄片为基本材料，经拉丝或者辊压形成。