[发明专利]一种食品处理方法及装置

权利要求书

1.一种食品处理方法，其特征在于，包括：

发射自由电子；

生成自由电子加速电场，通过所述加速电场加速所发射的自由电子；

生成自由电子碰撞过程调制电场，通过所述调制电场控制部分自由电子与所述调制电场中的气体分子相互作用产生碰撞电离过程，生成碰撞电离自由电子；

控制所述发射的自由电子和生成的碰撞电离自由电子共同作用于食品表面。

2.根据权利要求1所述的食品处理方法，其特征在于：

所述发射自由电子的过程为：

制造并保持阴极材料所处的第一工作区的气压环境；

施加所述加速电场使电子逸出阴极材料表面，进入第一工作区成为自由电子；

通过第一工作区的所述加速电场调制所发射的自由电子的能量和通量，使所述自由电子逐层、逐级地以场发射形式进入食品所处的第二工作区；

所述第二工作区的气压高于所述第一工作区的气压。

3.根据权利要求2所述的食品处理方法，其特征在于：

食品所处的第二工作区的气压环境为常压、稀薄气体或高压气体。

4.根据权利要求3所述的食品处理方法，其特征在于：

在第二工作区生成自由电子碰撞过程调制电场；

调节所述调制电场，通过自由电子与气体分子的碰撞电离使自由电子增殖并调控其能量。

5.根据权利要求3所述的食品处理方法，其特征在于：

控制自有电子透过多级场致发射电子窗实现所述自由电子逐层、逐级地以场发射形式进入食品所处的第二工作区；

所述多级场致发射电子窗具有闭孔多孔结构，且至少在部分的闭孔孔洞中，设置有电场增强纳米结构。

6.根据权利要求3所述的食品处理方法，其特征在于：

使所述自由电子逐层、逐级地以场发射形式进入食品所处的第二工作区的过程包括：

在第一工作区和第二工作区的交界处，设置多个场致发射结构，每个场致发射结构均能获取并聚集自由电子，以及产生场致发射；

部分场致发射结构所发射的自由电子，能够至少部分地被其他场致发射结构所获取，从而形成分级、分层或分区域的获取、聚集、场致发射过程，直至自由电子从第一工作区逸出到第二工作区，进入自由电子碰撞过程调制电场，并与其中的气体分子相互作用产生碰撞电离过程，生成碰撞电离自由电子。

7.根据权利要求3所述的食品处理方法，其特征在于：

通过调节自由电子的平均自由程及其逸出第一工作区的位置与食品表面之间的相对距离，调控自由电子与食品周围气体分子的碰撞电离和激发过程。

8.根据权利要求1-7任一项所述的食品处理方法，其特征在于：

所述第一工作区的气压低于0.1MPa。

9.根据权利要求1-7任一项所述的食品处理方法，其特征在于：

还包括：

检测第一工作区和/或第二工作区的气体中颗粒物、化学成分和气压；

监控第一工作区和/或第二工作区的气压环境状态，以及食品的消杀净化处理效果。

10.根据权利要求1-7任一项所述的食品处理方法，其特征在于：

所述食品为液态食品、固态食品或固液气三态混合食品。