[发明专利]屏下指纹保护贴的制备方法、屏下指纹保护贴及检测方法

权利要求书

1.一种屏下指纹保护贴的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、获取PET膜；

S2、对所述PET膜进行双向拉伸，之后对拉伸后的PET膜热定型，获得预定取向度的PET光学基材，其中，所述PET光学基材的配向角与显示屏的偏光片角度一致；

S3、在所述PET光学基材的两面皆涂覆增透涂层，获得增透PET光学膜；

S4、在所述增透PET光学膜的一面涂覆硬化层，在所述增透PET光学膜的另一面涂覆压敏胶层，获得屏下指纹保护贴。

2.根据权利要求1所述的屏下指纹保护贴的制备方法，其特征在于，所述S2中，对所述PET膜进行双向拉伸，包括：

对所述PET膜在第一温度下进行纵向拉伸，获得纵向拉伸后的PET拉伸膜，其中，纵向拉伸的纵拉比为3.3-4倍；

对所述纵向拉伸后的PET拉伸膜在第二温度下进行横向拉伸，获得双向拉伸后的PET拉伸膜，其中，横向拉伸的横拉比为3.5-4倍。

3.根据权利要求2所述的屏下指纹保护贴的制备方法，其特征在于，所述第一温度为200-300℃；所述第二温度为100-150℃。

4.根据权利要求1所述的屏下指纹保护贴的制备方法，其特征在于，S2中，对拉伸后的PET膜热定型的温度为200-250℃。

5.根据权利要求1所述的屏下指纹保护贴的制备方法，其特征在于，S3中，所述增透涂层的厚度为100-200nm。

6.根据权利要求1所述的屏下指纹保护贴的制备方法，其特征在于，所述增透涂层包括2-4官能团聚酯丙烯酸酯，4-6官能团1,6-己二醇二丙烯酸酯，10-100nm纳米中空二氧化硅和稀释剂。

7.根据权利要求6所述的屏下指纹保护贴的制备方法，其特征在于，

所述2-4官能团聚酯丙烯酸酯的重量占增透涂层重量的10％-20％，所述2-4官能团聚酯丙烯酸酯折射率为1.45-1.47；

所述4-6官能团1,6-己二醇二丙烯酸酯的重量占增透涂层重量的10％-20％，所述4-6官能团1,6-己二醇二丙烯酸酯的折射率为1.47；

所述10-100nm纳米中空二氧化硅占增透涂层重量的30％-40％，所述10-100nm纳米中空二氧化硅的折射率为1.33-1.38；

所述稀释剂的重量占增透涂层重量的20％-50％。

8.根据权利要求1所述的屏下指纹保护贴的制备方法，其特征在于，所述S2中，预定取向度的PET光学基材的角度为135度配向角或45度配向角。

9.一种屏下指纹保护贴，其特征在于，通过权利要求1-8任一项所述的屏下指纹保护贴的制备方法制备。

10.一种屏下指纹保护贴的偏光角度测试方法，其特征在于，包括以下步骤：

取用待测试手机，使得手机屏幕处于白色背景界面下，其中，所述待测试手机未贴附屏下指纹保护贴；

获取一偏光片，将偏光片紧贴手机屏幕，在手机屏幕的白色背景界面下旋转偏光片，直至透过偏光片看手机处于全黑状态下，记录偏光片的位置为测试位置；

在待测试手机的手机屏上贴附屏下指纹保护贴，获得贴膜手机；

将偏光片紧贴贴膜手机的屏幕，偏光片移动并旋转至测试位置，通过偏光片观测贴膜手机的屏幕，若屏幕为全黑，则屏下指纹保护贴的模切方向正确，否则，为不合格产品。