[发明专利]MOCVD反应腔室清扫装置及其清扫方法

权利要求书

1.一种MOCVD反应腔室清扫装置，其特征在于：所述的MOCVD反应腔室清扫装置包括承载盘(1),承载盘(1)上部设置擦拭部件Ⅰ(2)，清理手臂(3)包括支撑部件(4)和擦拭部件Ⅱ(5)，承载盘(1)下部通过合页(6)与清理手臂(3)的支撑部件(4)下部铰接，承载盘(1)侧面设置凹槽(7)，凹槽(7)的凹槽表面(8)与水平面呈锐角夹角结构，所述的承载盘(1)底部设置卡槽(9)，腔室本体(10)下部内表面设置旋转升降部件(11)，擦拭部件Ⅰ(2)包括海绵层和无纺布层，擦拭部件Ⅱ(5)包括海绵层和无纺布层。

2.根据权利要求1所述的MOCVD反应腔室清扫装置，其特征在于：所述的MOCVD反应腔室清扫装置的旋转升降部件(11)与能够控制旋转升降部件(11)在腔室本体(10)内升降的控制部件连接。

3.根据权利要求2所述的MOCVD反应腔室清扫装置，其特征在于：所述的控制部件控制旋转升降部件(11)下降到最低位置时，承载盘(1)下表面设置为能够贴合在腔室本体(10)下表面位置的结构，控制部件控制旋转升降部件(11)升起到最高位置时，擦拭部件Ⅰ(2)上表面设置为能够贴合在腔室本体(10)上表面位置的结构。

4.根据权利要求2或3所述的MOCVD反应腔室清扫装置，其特征在于：所述的MOCVD反应腔室清扫装置使用时，承载盘(1)的卡槽(9)设置为能够卡装在旋转升降部件(11)上的结构，控制部件控制旋转升降部件(11)未旋转处于静止状态时，清理手臂(3)设置为能够位于承载盘(1)侧面的凹槽(7)内的结构，控制部件控制旋转升降部件(11)旋转处于工作状态时，清理手臂(3)设置为能够离开承载盘(1)的凹槽(7)而贴合在腔室本体(10)侧壁的结构。

5.根据权利要求1或2所述的MOCVD反应腔室清扫装置，其特征在于：所述的擦拭部件Ⅰ(2)和擦拭部件Ⅱ(5)优选清洁度和吸附性高的无纺布和弹性大的海绵，无纺布设置为包裹海绵块的结构；清理手臂(3)包括多个，多个清理手臂(3)沿在承载盘(1)侧面一周按间隙布置。

6.根据权利要求1或2所述的MOCVD反应腔室清扫装置，其特征在于：所述的MOCVD反应腔室清扫装置设置为能够进入腔室本体(10)的反应腔室(12)和取出腔室本体(10)的反应腔室(12)的结构，反应腔室(12)连通氩气供应部件，氩气供应部件供应氩气压强在700Torr-800Torr之间，腔室本体(10)下方设置尾气抽取部件(13)。

7.根据权利要求1或2所述的MOCVD反应腔室清扫装置，其特征在于：所述的MOCVD反应腔室清扫装置的承载盘(1)的直径D≤反应腔室(12)直径d，清理手臂(3)长度＝MOCVD反应腔室清扫装置处于静止状态时承载盘(1)上表面到反应腔室(12)顶部的距离，凹槽(7)的凹槽表面(8)与水平面的锐角夹角为α，0°＜α＜30°。

8.根据权利要求1或2所述的MOCVD反应腔室清扫装置，其特征在于：所述的承载盘(1)为石墨盘，承载盘(1)侧面到反应腔室(12)侧壁的距离H＝支撑部件(4)和擦拭部件Ⅱ(5)的厚度之和。