[发明专利]一种对电池隔离膜进行改性的方法

权利要求书

1.一种对电池隔离膜进行改性的方法，其特征在于，包括：

提供基材，所述基材为多孔基材；

采用气相沉积法，在所述基材的表面和所述基材的孔内部形成无机层，并使所述无机层为孔隙率低于10％的连续致密膜层；所述无机层与所述基材的界面剥离力不低于30N/m；所述无机层包覆所述孔的深度为所述多孔基材厚度的1/1000～1/20。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括：

在形成所述无机层前，对所述基材进行表面预处理；

和/或：所述表面预处理包括等离子体活化、电晕预处理、化学方法预处理、和电子束预处理工艺中的一种或几种，优选为等离子体或电子束预处理。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述气相沉积法选自原子层沉积法、化学气相沉积法、物理气相沉积法、和热蒸发中的一种或者上述方法组合的镀膜工艺。

4.根据权利要求1-3任一所述的方法，其特征在于，所述无机层为不含粘结剂的无机介电层。

5.根据权利要求1-3任一所述的方法，其特征在于，所述无机层的厚度为20nm～1000nm。

6.根据权利要求1-3任一所述的方法，其特征在于，所述无机层和所述多孔基材形成复合隔离膜，所述复合隔离膜的耐刺穿性能不低于300gf；

和/或，所述复合隔离膜的透气度在130s～350s之间；

和/或，所述复合隔离膜在90℃下单独放置1h后，横向热收缩率和纵向热收缩率均低于3％，进一步优化，均低于2％，更进一步地均低于1％。

7.根据权利要求1-3任一所述的方法，其特征在于，所述无机层包含具有电子绝缘特性和导离子性能的无机氧化物、无机氟化物、无机氮化物、无机氢氧化物中的至少一种。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述无机层包含Al的氧化物、氧化铝的水合物、Si的氧化物、Si的氮化物、Ti的氧化物、Ti的氮化物、Zn的氧化物、Zn的氮化物、Mg的氧化物、Mg的氮化物、Zr的氧化物、Zr的氮化物、Ca的氧化物、Ca的氮化物、Ba的氧化物、和Ba的氮化物中的至少一种。

9.根据权利要求1-3任一所述的方法，其特征在于，所述基材的材质包含选自聚乙烯、聚丙烯、聚偏氟乙烯、芳纶、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚四氟乙烯、聚丙烯腈、聚酰亚胺、聚酰胺、聚酯、和天然纤维中的一种或多种的组合；

和/或，所述基材的孔隙率为20％～80％，进一步优选为40％～70％；

和/或，所述基材的孔的孔径为0.02μm～0.5μm；

和/或，所述基材的厚度为5μm～50μm，进一步优选的是7μm～20μm，更进一步优选的为7μm～15μm。

10.根据权利要求1-3任一所述的方法，其特征在于，所述无机层的厚度D₁与所述多孔基材的孔径D₂满足：0.3≤D₁/D₂≤40；优选为1≤D₁/D₂≤33。