[发明专利]GT35球碗曲面沉积TiN膜工艺方法在审
| 申请号： | 202110907484.8 | 申请日： | 2021-08-09 |
| 公开（公告）号： | CN113652637A | 公开（公告）日： | 2021-11-16 |
| 发明（设计）人： | 仲银鹏;王昊;李文卓 | 申请（专利权）人： | 陕西航天时代导航设备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/02;C23C14/22 |
| 代理公司： | 宝鸡市新发明专利事务所 61106 | 代理人： | 严翔 |
| 地址： | 721300 陕西省宝*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | gt35 曲面 沉积 tin 工艺 方法 | ||
【权利要求书】：
1.GT35球碗曲面沉积TiN膜工艺方法，其特征在于：
S1.预热，将球碗零件置于真空炉内保持抽真空状态对零件进行加热，增加零件表面活性；
S2.刻蚀，保持炉内温度，向真空炉内通入氩气，开启刻蚀电压，通过氩离子去除零件表面杂质；
S3.打底，排出氩气后，保持炉内温度，启动Ti靶材，使零件表面形成一层纯Ti镀层；
S4.沉积TiN过渡层，启动Ti靶材同时逐渐通入氮气，使氮气处于不饱和状态，保持炉压和温度，在纯Ti镀层表面形成Ti和TiN共存的过渡层；
S5.沉积TiN功能层，启动Ti靶材同时通入饱和状态氮气，保持炉压和温度，反复该步骤，且每次沉积前需要使前次沉积的功能层冷却至炉内温度从而消除功能层内应力，直至沉积达到规定厚度完成功能层沉积；
S6.冷却出炉：零件随炉冷却至80℃以下取出。
2.根据权利要求1所述的GT35球碗曲面沉积TiN膜工艺方法，其特征在于：步骤S1-S5中炉内温度保持在360-400℃。
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