[发明专利]一种高集成2.5D封装结构及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202110906696.4 申请日: 2021-08-09
公开(公告)号: CN113451292A 公开(公告)日: 2021-09-28
发明(设计)人: 马晓建;刘卫东;高瑞锋;苏亚兰;张婕 申请(专利权)人: 华天科技(西安)有限公司
主分类号: H01L25/18 分类号: H01L25/18;H01L23/48;H01L23/498;H01L21/50;H01L21/60
代理公司: 北京汇捷知识产权代理事务所(普通合伙) 11531 代理人: 宋鹤
地址: 710018 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 集成 2.5 封装 结构 及其 制造 方法
【说明书】:

发明涉及芯片封装技术领域,具体为一种高集成2.5D封装结构及其制造方法,包括Package Substrate和埋die的硅Interposer,所述埋die的硅Interposer的上下表面均开设有凹槽,所述埋die的硅Interposer的凹槽内设置有预埋芯片,埋die的硅Interposer和预埋芯片之间设置有胶水,埋die的硅Interposer的下表面设置有Package Substrate,埋die的硅Interposer的上表面的右侧设置有逻辑芯片,埋die的硅Interposer的上表面的左侧设置有HBM芯片,同时在埋die的硅Interposer的顶面和底面时贴装多个预埋芯片,提高产品电性表现,缩短了芯片和芯片之间的导通回路,方便提高电性能,通过堆叠或并排放置在具有硅通孔的埋die的硅Interposer顶部,埋die的硅Interposer可提供芯片之间的互联,从而增加整个2.5D封装的集成度。

技术领域

本发明涉及芯片封装技术领域,具体为一种高集成2.5D封装结构及其制造方法。

背景技术

封装技术伴随集成电路发明应运而生,主要功能是完成电源分配、信号分配、散热和保护,伴随着芯片技术的发展,封装技术不断革新,封装互连密度不断提高,封装厚度不断减小,三维封装、系统封装手段不断演进,随着集成电路应用多元化,智能手机、物联网、汽车电子、高性能计算、5G、人工智能等新兴领域对先进封装提出更高要求,封装技术发展迅速,创新技术不断出现,为解决有机基板布线密度不足的问题,带有TSV垂直互连通孔和高密度金属布线的硅Interposer应运而生,应用TSV转接板的封装结构称为2.5DInterposer,2.5D封装技术也称为晶圆级封装,2.5D封装技术是把芯片封装到硅转接板上,并使用硅转接板上的高密度走线进行互联,随着半导体工业的发展,封装内芯片通过金线键合底层封装体到基板上,同样的,上层封装中的芯片通过金线再将两个封装层之间的基板键合,然后整个封装成一个整体的封装体,2.5D封装是传统2DIC封装技术的进步,可实现更精细的线路与空间利用。

在2.5D Interposer封装中,若干个芯片并排排列在Interposer上,但众多的裸片堆叠或并排放置在具有硅通孔(TSV)的中介层顶部,仍然使得封装的集成度增加的有限,因此对于高集成的高速产品封装需求,提出一种结构,增加封装集成度同时,有效缩短多个芯片间信号以及电源网络的通路,从而方便进一步提高电性能。

发明内容

本发明的目的在于提供一种高集成2.5D封装结构及其制造方法,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种高集成2.5D封装结构及其制造方法,包括Package Substrate和埋die的硅Interposer,所述埋die的硅Interposer的上下表面均开设有凹槽,所述埋die的硅Interposer的凹槽内设置有预埋芯片,埋die的硅Interposer和预埋芯片之间设置有胶水,埋die的硅Interposer的下表面设置有PackageSubstrate,埋die的硅Interposer的上表面的右侧设置有逻辑芯片,埋die的硅Interposer的上表面的左侧设置有HBM芯片。

优选的,所述埋die的硅Interposer的上表面的中间开设有凹槽,埋die的硅Interposer的下表面的两侧均开设有凹槽,且下表面的两个凹槽呈对称分布,埋die的硅Interposer的凹槽的形状和预埋芯片的形状一致。

优选的,所述埋die的硅Interposer的两端均开设有硅通孔(TSV),埋die的硅Interposer和预埋芯片之间的缝隙通过胶水填充,胶水将预埋芯片固定在埋die的硅Interposer的凹槽中。

优选的,所述埋die的硅Interposer上扇出有线路层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华天科技(西安)有限公司,未经华天科技(西安)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110906696.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top