[发明专利]一种物理气相传输法制备Al1 在审
申请号: | 202110906254.X | 申请日: | 2021-08-09 |
公开(公告)号: | CN113684536A | 公开(公告)日: | 2021-11-23 |
发明(设计)人: | 吴亮;王琦琨;付丹扬;龚建超 | 申请(专利权)人: | 奥趋光电技术(杭州)有限公司 |
主分类号: | C30B23/00 | 分类号: | C30B23/00;C30B23/02;C30B29/38 |
代理公司: | 杭州宇信联合知识产权代理有限公司 33401 | 代理人: | 梁群兰 |
地址: | 311100 浙江省杭州市余杭区余*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 物理 相传 法制 al base sub | ||
1.一种物理气相传输法制备铝钪氮晶体的方法,其特征在于,所述铝钪氮晶体化学表达式为Al1-xScxN,所述Al1-xScxN中Sc的含量能达到50at%,所述方法包括以下步骤:
1)准备衬底及原料;
2)将衬底及原料放入坩埚,将坩埚置于密闭的高温炉中,原料置于高温区,衬底置于低温区;其中所述原料为AlN材料或者Al材料与至少含有Sc的材料的混合体;
3)向炉体中通入高纯氮气至0.1-10Kpa,同时将所述坩埚底部加热至1000-1200℃,保温1-20小时;
4)继续向炉体中通入氮气,将炉体中的气压升至30-100Kpa,同时将所述坩埚底部加热至1900-2200℃,并保温一段时间进行所述Al1-xScxN晶体的生长,至Al1-xScxN晶体达到所需厚度;其中,所述保温的工艺中,通过调节热场,控制生长室中径向和轴向的温差,使得生长室内轴向和径向的热场分布在原料区形成凸形温场、在衬底区形成凹形温场;且在晶体生长面形成Al和Sc低过饱和度的分布,形成二维层状生长模式,Al1-xScxN在生长面缓慢沉积;
5)降温至室温,从坩埚内取出制备完成的Al1-xScxN晶体。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤1)中,所述衬底的材料为硅、锗或钨衬底材料,或者是氧化锌、蓝宝石、碳化硅、氮化镓、氮化铝、砷化镓、磷化铟、铌酸锂或钽酸锂化合物。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述衬底材料包括含任意取向晶体组成的多晶,或固定取向的单晶。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤1)中,所述原料包括下面材料组合中的一种或几种:
AlN粉与ScN粉或Sc金属混合的材料组合、AlN烧结体与ScN粉或Sc金属混合的材料组合、AlN多晶或Al金属与AlSc合金混合的材料组合。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,步骤1)中准备的原料中Sc的含量根据所述Al1-xScxN晶体中Sc的含量值确定。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述Al1-xScxN晶体中Sc的含量能达到30-43at%。
7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤2)中,所述坩埚由钨、碳化钽、碳化钨、钽、氮化钽或碳化锆材料制成。
8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤4)中所述在晶体生长面形成气相Al和Sc低过饱和度的分布,其中所述气相Al和Sc低过饱和度低于0.06 。
9.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:步骤5)中的保温时间根据所述Al1-xScxN晶体的目标厚度确定;所述Al1-xScxN晶体的厚度能够达到1mm以上。
10.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述Al1-xScxN晶体的氧含量低,杂质总含量小于100ppm,纯度大于99.95%,(0002)摇摆曲线半高宽小于1°。
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