[发明专利]一种超宽带YAG激光反射膜及其制备方法

权利要求书

1.一种超宽带YAG激光反射膜，其特征在于：其结构为：Air/Sub/SC aM bL(HL)^m cM/Air；其中，Sub代表基底；m为周期数，m≥1，为1-10的整数；H代表高折射率膜层，高折射率膜层的折射率为1.8-3；L代表低折射率膜层，低折射率膜层的折射率为1-1.5；a、b和c分别代表各膜层的光学厚度系数；M代表中折射率Al₂O₃膜层，S代表粘接层，C代表金属膜层。

2.如权利要求1所述的超宽带YAG激光反射膜，其特征在于：高折射率膜层所用膜料为TiO₂或者Ti₃O₅；低折射率膜层所用膜料为SiO₂。

3.如权利要求1或2所述的超宽带YAG激光反射膜，其特征在于：金属膜层所用的膜料为铜、金或者银。

4.如权利要求1或2所述的超宽带YAG激光反射膜，其特征在于：粘接层所用膜料为镍、铬或者镍铬合金。

5.如权利要求4所述的超宽带YAG激光反射膜，其特征在于：基底所用材料为硅基底或者折射率1-2的玻璃基材。

6.如权利要求1或2所述的超宽带YAG激光反射膜，其结构为：Air/Sub/SC 0.3M 0.7LHLHLHL 0.9M/Air，其中，M代表Al₂O₃膜层，H代表TiO₂膜层，L代表SiO₂膜层，C代表金属膜层铜Cu，S代表粘接层镍铬合金。

7.如权利要求1或2所述的超宽带YAG激光反射膜，其结构为：Air/Sub/SC 0.2M 0.6LHLHLHL 0.8M/Air，其中，M代表Al₂O₃膜层，H代表Ti₃O₅膜层，L代表SiO₂膜层，C代表金属膜层银Ag，S代表粘接层镍Ni层。

8.权利要求1-7任意一项所述的超宽带YAG激光反射膜的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：

(1)基底加热：镀膜前对基底在抽真空状态下进行烘烤加热，提高基底温度，其中，在镀制金属膜层时的温度要控制在80℃以内，其余层的烘烤温度为200℃～300℃；

(2)离子束清洗：对基底进行离子束清洗，离子清洗时长为1～15min，离子束电压为200～400V，离子束流为1～8A；

(3)基底正面膜系镀制：根据膜系设计中的膜系结构，在基底正面依次镀制各膜层。

9.如权利要求8所述的制备方法，其特征在于：步骤(1)中，烘烤前，用无尘布蘸环保擦拭液和丙酮体积比为(6-8):1的混合液擦拭基底，然后采用超声波清洗的方式清洗基底。

10.如权利要求8或9所述的制备方法，其特征在于：步骤(3)中，

SiO₂膜层镀制：将SiO₂膜料放到坩埚或者钼皮舟中，采用电子束蒸发或者电阻加热的方法进行镀制，其本底真空度高于1.5×10^-3Pa，沉积速率为0.1-5nm/s；

Al₂O₃膜层镀制：将Al₂O₃膜料放到坩埚或者钼皮舟中，采用电子束蒸发或者电阻加热的方法进行镀制，其本底真空度高于1.5×10^-3Pa，沉积速率为0.05-1nm/s；

TiO₂膜层镀制：将TiO₂膜料放到坩埚或者钼皮舟中，采用电子束蒸发或者电阻加热的方法进行镀制，其本底真空度高于1.5×10^-3Pa，沉积速率为0.05-1nm/s；

Ti₃O₅膜层镀制：将Ti₃O₅膜料放到坩埚或者钼皮舟中，采用电子束蒸发或者电阻加热的方法进行镀制，其本底真空度高于1.5×10^-3Pa，沉积速率为0.05-1nm/s；

Cu膜层镀制：将Cu膜料放到坩埚或者钼皮舟中，采用电子束蒸发或者电阻加热的方法进行镀制，其本底真空度高于1.5×10^-3Pa，沉积速率为0.1-10nm/s；

Ag膜层镀制：将Ag膜料放到坩埚或者钼皮舟中，采用电子束蒸发或者电阻加热的方法进行镀制，其本底真空度高于1.5×10^-3Pa，沉积速率为0.1-10nm/s；

Ni镍膜层镀制：将镍膜料放到坩埚或者钼皮舟中，采用电子束蒸发或者电阻加热的方法进行镀制，其本底真空度高于1.0×10^-2Pa，沉积速率为0.05-1nm/s；

Ni-Cr镍铬合金膜层镀制：将镍铬合金膜料放到坩埚或者钼皮舟中，采用电子束蒸发或者电阻加热的方法进行镀制，其本底真空度高于1.0×10^-2Pa，沉积速率为0.05-1nm/s。