[发明专利]缺陷检测装置

权利要求书

1.一种缺陷检测装置，用于检测待测结构上的缺陷，所述待测结构包括相对布置的第一表面和第二表面，其特征在于，所述缺陷检测装置包括照明模块、图像处理模块以及两个成像模块；

所述照明模块用于提供检测光束，所述检测光束入射至所述第一表面并透过所述待测结构照射至所述第二表面；

所述两个成像模块用于从两个不同的角度接收由所述第一表面和所述第二表面散射的所述检测光束并进行成像以形成所述待测结构的两个检测图像，并将所述两个检测图像传输至所述图像处理模块；

所述图像处理模块与所述两个成像模块信号连接，所述图像处理模块用于基于所述两个检测图像确定所述待测结构的缺陷的位置。

2.如权利要求1所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述两个成像模块对所述待测结构的第一表面的成像视场重合，并且对所述待测结构的第二表面的成像视场分离。

3.如权利要求1所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述图像处理模块包括信号连接的图像处理器和识别器，所述图像处理器用于将所述两个检测图像构建于同一图像坐标系下，所述识别器用于识别所述两个检测图像中与所述待测结构的缺陷对应的缺陷图像，并通过识别到的所述缺陷图像与所述图像坐标系得到所述待测结构的缺陷的位置。

4.如权利要求3所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述识别器识别到所述缺陷图像后，所述识别器通过所述图像坐标系获取与所述缺陷对应的所述缺陷图像在所述两个检测图像中的相对位置关系，以通过所述相对位置关系得到所述缺陷的位置；其中，当识别到的所述相对位置关系为位置相同或存在偏移量，且所述偏移量小于或者等于预定偏移量时，判定所述缺陷位于所述待测结构的第一表面，或者，当识别到的所述相对位置关系为存在偏移量，且所述偏移量大于所述预定偏移量时，判定所述缺陷位于所述待测结构的第二表面。

5.如权利要求4所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述识别器还用于根据所述两个检测图像中的所述缺陷图像的数量得到所述缺陷的数量，以及根据所述两个检测图像中的所述缺陷图像的灰度值得到所述缺陷的尺寸。

6.如权利要求1所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述两个成像模块中的一个所述成像模块的最佳焦面为所述待测结构的第一表面，另一个所述成像模块的最佳焦面为所述待测结构的第二表面。

7.如权利要求6所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述检测装置还包括垂向焦面控制模块，所述垂向焦面控制模块用于测量所述待测结构的第一表面和第二表面与所述成像模块之间的离焦量，并根据测量到的所述离焦量，控制所述待测结构沿所述第一表面或所述第二表面的垂向运动，以调节所述待测结构的第一表面和所述第二表面与所述成像模块之间的离焦量，从而使所述待测结构的第一表面为一个所述成像模块的最佳焦面，并使所述待测结构的第二表面为另一个所述成像模块的最佳焦面。

8.如权利要求1所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述缺陷检测模块还包括安装于所述待测结构的第二表面的水平运动模块，所述水平运动模块用于带动所述待测结构沿水平方向运动。

9.如权利要求1所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述照明模块提供的检测光束包括多个子光束，所述多个子光束以多个入射角入射至所述第一表面，其中，所述多个子光束的入射角为0°～45°。

10.如权利要求9所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述照明模块提供的检测光束为非相干光束。

11.如权利要求1所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述两个成像模块对称设置于所述待测结构的上方，所述第一表面朝向所述成像模块，其中，所述两个成像模块的视场角均为30°～60°。