[发明专利]一种高靶材利用率圆形平面磁控溅射阴极有效

专利信息
申请号: 202110872823.3 申请日: 2021-07-30
公开(公告)号: CN113584449B 公开(公告)日: 2023-07-28
发明(设计)人: 汪建;杜寅昌;李成;程厚义;赵巍胜;张悦 申请(专利权)人: 北京航空航天大学合肥创新研究院(北京航空航天大学合肥研究生院)
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 代理人: 苗娟
地址: 230013 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 高靶材 利用率 圆形 平面 磁控溅射 阴极
【权利要求书】:

1.一种高靶材利用率圆形平面磁控溅射阴极,包括靶材(1)、磁体(2)、磁轭(3)及靶座(5),其特征在于:还包括运动机构(6);

靶材(1)安装在靶座(5)上方,磁体(2)安装在磁轭(3)上,位于靶座(5)下方,磁体(2)与阴极中轴(4)偏心安装,即磁体中心与阴极中轴(4)不重合;

运动机构(6)设置在磁轭(3)的下方,磁轭(3)连接到下方的运动机构(6)上,运动机构(6)牵引磁轭(3)从而带动磁体(2)绕阴极中轴(4)螺旋式周期旋转运动,旋转半径逐渐增大;

所述运动机构(6)包括齿轮齿条运动机构(A)、直线导轨机构(B)、外轴机构(C)及内轴机构(D);

磁轭(3)安装在齿轮齿条运动机构(A)的齿条上,同时也安装在直线导轨机构(B)的滑台上;

齿轮齿条运动机构(A)的齿轮与内轴机构(D)连接,在内轴机构(D)的电机驱动下通过磁轭(3)调节磁体(2)的中心相对阴极中轴(4)的中心距;

直线导轨机构(B)的滑轨安装在外轴机构(C)上,通过外轴机构(C)与内轴机构(D)的两部电机转速差实现磁轭(3)及磁体(2)做螺旋式旋转。

2.如权利要求1所述的一种高靶材利用率圆形平面磁控溅射阴极,其特征在于:所述磁体为圆柱状、条形、正方形或者不规则形状。

3.如权利要求2所述的一种高靶材利用率圆形平面磁控溅射阴极,其特征在于:所述磁体为永磁体或者电磁体。

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