[发明专利]一种控制含氧有机前驱体表面反应产物选择性的方法有效
申请号: | 202110865112.3 | 申请日: | 2021-07-29 |
公开(公告)号: | CN113564529B | 公开(公告)日: | 2022-08-16 |
发明(设计)人: | 彭欣晨;刘新邦;孔惠慧 | 申请(专利权)人: | 南京理工大学 |
主分类号: | C23C14/12 | 分类号: | C23C14/12;C23C14/16;C23C14/24;C08G83/00;H01M4/90 |
代理公司: | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人: | 邹伟红 |
地址: | 210094 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 控制 有机 前驱 体表 反应 产物 选择性 方法 | ||
1.一种控制含氧有机前驱体表面反应产物的选择性的方法,其特征在于,具体包括以下步骤:
步骤1:对Ag(110)表面进行循环氩刻退火处理,得到干净的表面;
步骤2:同一腔体中,将3-溴-2-萘酚分子装入坩埚中,安装到分子源上,将铁棒装入金属源;抽真空,当气压小于8×10-8 mbar,打开OMBE有机分子束蒸发设备,将电流和电压分别升至0.2 A和0.1 V,温度升至24.2 ºC;打开金属源的电子束蒸发设备,将高压升至1.5 kV,将3-溴-2-萘酚分子和铁原子共同沉积到Ag(110)表面,控制3-溴-2-萘酚和铁原子的摩尔比为3:1,分子和金属沉积时间分别为1分钟和40秒;
步骤3:将步骤2得到的金属基底进行退火处理,得到退火后的金属基底。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤3中,具体步骤为:将步骤2得到的金属基底从室温加热至400 K,在400 K保温5分钟后,再自然冷却至室温。
3.一种控制含氧有机前驱体表面反应产物的选择性的方法,其特征在于,具体包括以下步骤:
步骤1:对Ag(110)表面进行循环氩刻退火处理,得到干净的表面;
步骤2:同一腔体中,将3-溴-2-萘酚分子装入坩埚中,安装到分子源上,将铁棒装入金属源;抽真空,当气压小于8×10-8 mbar,打开OMBE有机分子束蒸发设备,将电流和电压分别升至0.2 A和0.1 V,温度升至24.2 ºC;打开金属源的电子束蒸发设备,将高压升至1.5 kV,将3-溴-2-萘酚分子和铁原子共同沉积到Ag(110)表面,控制3-溴-2-萘酚和铁原子的摩尔比为4:1,分子和金属沉积时间分别为1分钟和20秒;
步骤3:将步骤2得到的金属基底进行退火处理,得到退火后的金属基底。
4.如权利要求3所述的方法,其特征在于,步骤3中,具体步骤为:将步骤2得到的金属基底从室温加热至400 K,在400 K保温5分钟后,再自然冷却至室温。
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