[发明专利]一种控制含氧有机前驱体表面反应产物选择性的方法有效

专利信息
申请号: 202110865112.3 申请日: 2021-07-29
公开(公告)号: CN113564529B 公开(公告)日: 2022-08-16
发明(设计)人: 彭欣晨;刘新邦;孔惠慧 申请(专利权)人: 南京理工大学
主分类号: C23C14/12 分类号: C23C14/12;C23C14/16;C23C14/24;C08G83/00;H01M4/90
代理公司: 南京理工大学专利中心 32203 代理人: 邹伟红
地址: 210094 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 控制 有机 前驱 体表 反应 产物 选择性 方法
【权利要求书】:

1.一种控制含氧有机前驱体表面反应产物的选择性的方法,其特征在于,具体包括以下步骤:

步骤1:对Ag(110)表面进行循环氩刻退火处理,得到干净的表面;

步骤2:同一腔体中,将3-溴-2-萘酚分子装入坩埚中,安装到分子源上,将铁棒装入金属源;抽真空,当气压小于8×10-8 mbar,打开OMBE有机分子束蒸发设备,将电流和电压分别升至0.2 A和0.1 V,温度升至24.2 ºC;打开金属源的电子束蒸发设备,将高压升至1.5 kV,将3-溴-2-萘酚分子和铁原子共同沉积到Ag(110)表面,控制3-溴-2-萘酚和铁原子的摩尔比为3:1,分子和金属沉积时间分别为1分钟和40秒;

步骤3:将步骤2得到的金属基底进行退火处理,得到退火后的金属基底。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤3中,具体步骤为:将步骤2得到的金属基底从室温加热至400 K,在400 K保温5分钟后,再自然冷却至室温。

3.一种控制含氧有机前驱体表面反应产物的选择性的方法,其特征在于,具体包括以下步骤:

步骤1:对Ag(110)表面进行循环氩刻退火处理,得到干净的表面;

步骤2:同一腔体中,将3-溴-2-萘酚分子装入坩埚中,安装到分子源上,将铁棒装入金属源;抽真空,当气压小于8×10-8 mbar,打开OMBE有机分子束蒸发设备,将电流和电压分别升至0.2 A和0.1 V,温度升至24.2 ºC;打开金属源的电子束蒸发设备,将高压升至1.5 kV,将3-溴-2-萘酚分子和铁原子共同沉积到Ag(110)表面,控制3-溴-2-萘酚和铁原子的摩尔比为4:1,分子和金属沉积时间分别为1分钟和20秒;

步骤3:将步骤2得到的金属基底进行退火处理,得到退火后的金属基底。

4.如权利要求3所述的方法,其特征在于,步骤3中,具体步骤为:将步骤2得到的金属基底从室温加热至400 K,在400 K保温5分钟后,再自然冷却至室温。

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