[发明专利]一种高填方场地地坪沉降处理方法及处理结构

权利要求书

1.一种高填方场地地坪沉降处理方法，其特征在于，所述高填方场地地坪沉降处理方法包括：

S1、对高填方场地地坪进行等载静压处理，并对等载静压后的所述高填方场地地坪进行沉降观测；

S2、待所述高填方场地地坪沉降稳定后，在所述高填方场地地坪上制作预定深度的坑，并在所述坑的底面铺设垫层；

S3、在所述坑的内壁上砌筑砖胎膜；

S4、在所述坑内阵列安装多个预制构件，使多个所述预制构件的第一面板的上表面位于同一水平面内，在相邻的所述预制构件之间均预留第一间隙，所述预制构件与所述砖胎膜之间预留第二间隙；

S5、若所述高填方场地地坪为室外地坪，则在所述第一间隙和所述第二间隙内浇筑现浇肋梁；若所述高填方场地地坪为室内地坪，则在所述第一间隙和所述第二间隙内浇筑现浇肋梁，并在室内地坪上的墙体与位于最外围的所述预制构件之间设置现浇悬梁挑板。

2.如权利要求1所述的高填方场地地坪沉降处理方法，其特征在于，若所述高填方场地地坪内有原有建筑时，所述步骤S4还包括：在所述原有建筑与所述预制构件之间安装非标箱体，并在所述非标箱体与所述预制构件之间预留第三间隙，在所述第三间隙内浇筑所述现浇肋梁。

3.如权利要求1所述的高填方场地地坪沉降处理方法，其特征在于，所述步骤S5还包括：在所述现浇悬梁挑板与室内地坪上的墙体内壁之间安装柔性防水材料。

4.如权利要求1所述的高填方场地地坪沉降处理方法，其特征在于，在所述步骤S2中，若所述高填方场地地坪为室内地坪，且室内地坪下方埋设有承台，则所述坑的内壁与所述承台之间预留基础侧保护距离。

5.一种高填方场地地坪沉降处理结构，其特征在于，所述高填方场地地坪沉降处理结构包括：

多个预制构件，多个所述预制构件水平阵列设置于高填方场地地坪的沉降处；所述预制构件包括第一面板、第二面板以及设置于所述第一面板和所述第二面板之间的多个第一侧板；所述第一面板位于所述第二面板的上方，多个所述预制构件的所述第一面板的上表面均位于同一平面内；所述第一面板和所述第二面板的侧边上均设置有多根第一胡子筋；

多个现浇肋梁，任意两个相邻的所述预制构件之间均设置有所述现浇肋梁，所述现浇肋梁内设置有固定连接箍筋和第一钢筋，所述第一胡子筋与所述箍筋或者所述第一钢筋固定连接。

6.如权利要求5所述的高填方场地地坪沉降处理结构，其特征在于，所述预制构件为长方体或正方体结构，所述第一面板与所述第二面板平行，所述第一面板与所述第二面板均与所述第一侧板垂直连接。

7.如权利要求5所述的高填方场地地坪沉降处理结构，其特征在于，所述第一面板和所述第二面板内均设置有多根相互垂直连接的第二钢筋，所述第一胡子筋与所述第二钢筋固定连接，所述第二钢筋与所述第一胡子筋均为高延性冷轧带肋钢筋。

8.如权利要求5-7任意一项所述的高填方场地地坪沉降处理结构，其特征在于，所述高填方场地地坪沉降处理结构还包括非标箱体，所述非标箱体用于填补在所述预制构件与原有建筑之间，所述非标箱体与所述预制构件之间设置有所述现浇肋梁；

所述非标箱体包括第三面板、第四面板以及设置于所述第三面板和所述第四面板之间的第二侧板，所述第三面板位于所述第四面板上方，所述第三面板与所述第一面板位于同一平面内。

9.如权利要求8所述的高填方场地地坪沉降处理结构，其特征在于，所述第三面板和所述第四面板的侧边上设置有多根第二胡子筋；

所述第三面板和所述第四面板内均设置有多根相互垂直连接的第三钢筋，所述第二胡子筋的第一端与所述第三钢筋固定连接，所述第二胡子筋的第二端与所述箍筋或所述第一钢筋固定连接。

10.如权利要求5-7任意一项所述的高填方场地地坪沉降处理结构，其特征在于，所述高填方场地地坪沉降处理结构的周边固定设置有现浇悬挑板；

所述现浇悬挑板的上表面与所述第一面板的上表面位于同一平面内。