[发明专利]基于下沉式液浸套圈探伤装置

说明书

本发明涉及一种探伤装置，具体地说，涉及基于下沉式液浸套圈探伤装置。其包括液浸机构和设置在液浸机构外侧的控制柜，所述液浸机构包括主水箱和设置在主水箱顶部的顶盖，主水箱的顶部还设有探伤机构，探伤机构包括探测组件，探测组件用于对待探伤工件进行探测，所述液浸机构还包括下沉机构。本发明中通过下沉架和液压杆配合，实现了对待探伤工件的抬升和下沉，抬升后不论是上料还是下料都无需人工或者吊装设备与主水箱内液浸液体接触，从而解决人工或者吊装设备与液浸液体接触对其造成污染影响探伤精度的问题。

技术领域

本发明涉及一种探伤装置，具体地说，涉及基于下沉式液浸套圈探伤装置。

背景技术

轴承圈是具有一个或几个滚道的向心滚动轴承的环形零件，在制造的过程中包括锻造、热处理和磨削工序的监控这三个步骤，另外，在制造的过程中需要对轴承圈的损伤进行探测，以保证轴承圈生产的质量，防止后期在使用过程中因制造中的损伤导致发生意外断裂；

现有的检测通常需要探头对轴承圈内进行检测，但是在检测前需要将轴承圈等待探伤工件通过吊装设备落入至水箱内，这样在落入过程中吊装设备难免会与水箱内的液浸液体接触，这样吊装设备外表面的杂质就会进入到液浸液体内，使液浸液体变的浑浊，大大降低了最后探伤结果的精度。

发明内容

本发明的目的在于提供基于下沉式液浸套圈探伤装置，以解决上述背景技术中提出落入过程中吊装设备难免会与水箱内的液浸液体接触的问题。

为实现上述目的，提供了基于下沉式液浸套圈探伤装置，包括液浸机构和设置在液浸机构外侧的控制柜，所述液浸机构包括主水箱和设置在主水箱顶部的顶盖，主水箱的顶部还设有探伤机构，探伤机构包括探测组件，探测组件用于对待探伤工件进行探测，所述液浸机构还包括下沉机构，所述下沉机构至少包括：

下沉架，所述下沉架设置在主水箱内，且与主水箱滑动连接，形成下沉平台；

驱动架，驱动架设置在下沉架的底部，且驱动架不与下沉架底壁接触，用以为驱动架顶部设置的驱动横移座提供活动空间，驱动横移座的顶部转动连接有驱动压持辊；

液压杆，所述液压杆设置在下沉架的四个拐角处；

驱动组件，驱动组件设置在驱动架的一侧，并对应驱动横移座和驱动压持辊设置有两个，驱动压持辊对应的驱动组件于驱动横移座的一侧，其中：

驱动横移座连接的驱动组件用于驱动其在驱动架顶部滑动，驱动压持辊连接的驱动组件用于驱动其进行转动。

作为本技术方案的进一步改进，所述主水箱的一侧设有动力传输架，动力传输架和下沉架的顶部均设有多个动力滚筒。

作为本技术方案的进一步改进，所述下沉架的内部对称设有两个中板，中板与下沉架两侧内壁之间设有动力滚筒，两个中板之间的一侧设有动力滚筒。

作为本技术方案的进一步改进，所述驱动架设置有两个，两个驱动架之间还设有辅助架，驱动架和辅助架之间形成一个扇形结构，所述中板两侧的动力滚筒与其内部的动力滚筒相对设置，以形成三个空腔，具体的：

辅助架的顶部滑动连接有辅助横移座，辅助横移座的一侧设有驱动组件，用于驱动辅助横移座滑动，辅助横移座的顶部转动连接有辅助压持辊，辅助压持辊和驱动压持辊穿过对应的空腔。

作为本技术方案的进一步改进，所述下沉架顶部设有定位块，定位块的一侧设有液压杆，使用时，定位块用于对进入的待探伤工件进行定位。

作为本技术方案的进一步改进，所述定位块对应待探伤工件进入的一侧开设有“V”形槽。

作为本技术方案的进一步改进，所述下沉架顶部的两侧设有侧挡板，侧挡板的外侧设有液压杆，且侧挡板对应待探伤工件进入的一侧向外弯折。