[发明专利]一种红外反射复合涂层及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 202110841692.2 | 申请日： | 2021-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN113549887B | 公开（公告）日： | 2022-11-01 |
| 发明（设计）人： | 文懋;张雨;何星嘉;王龙鹏;张侃;郑伟涛 | 申请（专利权）人： | 吉林大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/16;C23C14/18;B22F1/16;G02B1/10;G02B5/08 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 刘丹丹 |
| 地址： | 130012 吉林*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 红外 反射 复合 涂层 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种红外反射复合涂层，其特征在于，由金属纳米晶颗粒核心和包覆于所述金属颗粒核心表面的碳层组成；
所述金属纳米晶颗粒包括金纳米晶颗粒、银纳米晶颗粒或铝纳米晶颗粒；
所述红外反射复合涂层中金属纳米晶颗粒和碳层的质量比为(9～14)：(75～80)。
2.如权利要求1所述的红外反射复合涂层，其特征在于，所述金属纳米晶颗粒的粒径为2～5nm。
3.如权利要求1或2所述的红外反射复合涂层，其特征在于，所述碳层的厚度为0.5～1nm。
4.权利要求1～3任一项所述的红外反射复合涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
以C靶和金属靶为溅射靶，进行磁控共溅射，在衬底表面沉积所述红外反射复合涂层；
所述金属靶包括金靶、银靶或铝靶。
5.如权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述磁控共溅射的压强为0.6～1.0Pa；时间为100～200min。
6.如权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述沉积的总沉积率为2～6nm/min。
7.如权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述金属靶的溅射功率为10～50W，所述C靶的溅射电流为0.1～0.5A。
8.如权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述衬底包括Si、Ti、不锈钢、蓝宝石或玻璃；
所述衬底的偏压为0～200V；
所述衬底的温度为500～700℃。
9.权利要求1～3任一项所述的红外反射复合涂层或权利要求4～8任一项所述制备方法制备得到的红外反射复合涂层在光学系统中的应用。
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