[发明专利]一种聚偏氟乙烯超滤膜及其制备方法

权利要求书

1.一种聚偏氟乙烯超滤膜的制备方法，其特征在于，所述聚偏氟乙烯超滤膜包括以下的原料：聚偏氟乙烯、粉料、偶联剂、聚乙烯吡咯烷酮、四氢呋喃、氨基化方解石；其中，所述粉料是以改性石墨烯与还原铁粉按照一定比例混合而成；所述改性石墨烯是以纳米石墨烯为原料在加入氟钛酸铵以及钛酸丁酯进行红外辐射处理后再加入改性剂进行改性制得；

所述制备方法包括以下步骤：

1）按照比例称取聚偏氟乙烯、粉料、偶联剂，混合均匀，得到第一混合料；

2）将第一混合料中依次加入聚乙烯吡咯烷酮、氨基化方解石、四氢呋喃，混合均匀，得到第二混合料；

3）将第二混合料加热至200-400℃，挤出成型，冷却，得到冷却料；

4）将冷却料加热并通入压缩氮气并于六亚甲基四胺水溶液中进行活化处理，再在温度为40℃的质量浓度为2%的苏打水中放置30-90分钟，然后真空处理除去有机挥发组分，得到所述聚偏氟乙烯超滤膜。

2.根据权利要求1所述的聚偏氟乙烯超滤膜的制备方法，其特征在于，所述改性剂是十七氟癸基三乙氧基硅烷、异辛基三乙氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、无水乙醇混合而成。

3.根据权利要求1所述的聚偏氟乙烯超滤膜的制备方法，其特征在于，所述聚偏氟乙烯超滤膜包括以下按照重量份的原料：聚偏氟乙烯32-45份、粉料3-7份、偶联剂0.05-0.25份、聚乙烯吡咯烷酮10-18份、四氢呋喃30-50份、氨基化方解石5-12份。

4.根据权利要求1所述的聚偏氟乙烯超滤膜的制备方法，其特征在于，所述聚偏氟乙烯超滤膜包括以下按照重量份的原料：聚偏氟乙烯36-40份、粉料3-5份、偶联剂0.08-0.12份、聚乙烯吡咯烷酮10-14份、四氢呋喃36-42份、氨基化方解石7-9份。

5.根据权利要求1所述的聚偏氟乙烯超滤膜的制备方法，其特征在于，所述聚偏氟乙烯超滤膜包括以下按照重量份的原料：聚偏氟乙烯38份、粉料3.5份、偶联剂0.1份、聚乙烯吡咯烷酮12份、四氢呋喃40份、氨基化方解石8份。

6.根据权利要求1所述的聚偏氟乙烯超滤膜的制备方法，其特征在于，在所述粉料中，改性石墨烯与还原铁粉的重量比是10-30：1-3。

7.根据权利要求1所述的聚偏氟乙烯超滤膜的制备方法，其特征在于，所述改性石墨烯的制备方法具体包括以下步骤：将纳米石墨烯进行超声分散于乙醇或水中，形成均匀液，然后酸性条件下加入4.5%纳米石墨烯重量的氟钛酸铵以及12.5%纳米石墨烯重量的钛酸丁酯进行混合均匀，然后进行红外辐射处理，再加入改性剂并于100-200℃进行抽真空震荡处理来完成改性，得到改性石墨烯。

8.根据权利要求1所述的聚偏氟乙烯超滤膜的制备方法，其特征在于，所述氨基化方解石的制备方法具体包括以下步骤：按照重量份将40-50份的方解石球磨到纳米级，加水超声分散成浆液，滴入1-5份的甘油、0.1-0.6份氨基化硅烷偶联剂并于70-80℃进行反应，洗涤、干燥，得到氨基化方解石。

9.根据权利要求1所述的聚偏氟乙烯超滤膜的制备方法，其特征在于，所述活化处理是放入浓度是5wt%的六亚甲基四胺水溶液中，50℃以下真空加热处理。

10.根据权利要求1-9任一项所述的聚偏氟乙烯超滤膜的制备方法制得的聚偏氟乙烯超滤膜。