[发明专利]一种基因抑制剂在制备表皮干细胞迁移药物制剂中的应用

说明书

本发明提供了一种基因抑制剂在制备表皮干细胞迁移药物制剂中的应用，属于表皮干细胞技术领域。本发明提供的基因抑制剂为lnc‑XPNPEP1‑1:1的siRNA。使用该基因抑制剂能够有效的促进表皮干细胞的迁移能力，并且能够有效的促进基质细胞衍生因子‑1(SDF‑1)和趋化因子受体4（CXCR4）的蛋白表达。

技术领域

本发明属于表皮干细胞技术领域，尤其涉及一种基因抑制剂在制备表皮干细胞迁移药物制剂中的应用。

背景技术

表皮干细胞（epidermal stem cells）是一类具有无限增殖能力，可增殖分化为表皮中各种功能的细胞群，是制备组织工程皮肤理想的种子细胞。表皮细胞在表皮再生、皮肤稳态维持和创面修复过程中发挥着重要的作用。

各种创伤和损伤会造成体表皮肤受损，不仅导致局部渗出，感染和疼痛，严重的患者会出现全身感染、水电解质失衡、休克，甚至部分患者会出现死亡。作为皮肤的种子细胞，表皮干细胞为皮肤修复和重建开辟了新的治疗途径。当损伤发生时，表皮干细胞可以通过增殖和迁移来实现皮肤的修复。因此，通过基因治疗的方式，转染表皮干细胞提高表皮干细胞的增殖和迁移可以使表皮干细胞更好的在皮肤损伤修复中发挥作用。

RNA干扰是指在进化过程中高度保守的、由双链RNA诱发的同源mRNA高效特异性降解的现象。由于使用RNAi技术可以特异性剔除或关闭特定基因的表达，所以该技术已被功能基因组学研究，部分的RNA药物已经进入到临床试验阶段。

发明内容

本发明的目的在于提供一种用于表皮干细胞迁移的药物制剂。

为实现上述目的，本发明提供了如下技术方案：

本发明提供了lnc-XPNPEP1-1:1的抑制剂在制备表皮干细胞迁移促进药物制剂中的应用，所述lnc-XPNPEP1-1:1的转录本序列如SEQ ID NO.1所示。

优选地，所述抑制剂为有效剂量的lnc-XPNPEP1-1:1的siRNA或其核酸修饰物。

优选地，所述siRNA的序列如SEQ ID NO.4和SEQ ID NO.5所示。

优选地，所述核酸修饰物为在SEQ ID NO.4或SEQ ID NO.5的基础上进行任意核苷酸的核糖修饰或碱基修饰获得的核酸序列修饰。

进一步，本发明提供了lnc-XPNPEP1-1:1的抑制剂在制备损伤修复药物制剂中的应用，所述lnc-XPNPEP1-1:1的转录本序列如SEQ ID NO.1所示。

优选地，所述抑制剂为有效剂量的lnc-XPNPEP1-1:1的siRNA或其核酸修饰物。

优选地，所述siRNA的序列如SEQ ID NO.4和SEQ ID NO.5所示。

优选地，所述核酸修饰物为在SEQ ID NO.4或SEQ ID NO.5的基础上进行任意核苷酸的核糖修饰或碱基修饰获得的核酸序列修饰。

更进一步，本发明提供了lnc-XPNPEP1-1:1的抑制剂在制备促迁移蛋白SDF-1和CXCR4蛋白表达促进剂中的应用，其特征在于，所述lnc-XPNPEP1-1:1的转录本序列如SEQID NO.1所示。

优选地，所述抑制剂为有效剂量的lnc-XPNPEP1-1:1的siRNA或其核酸修饰物；所述siRNA的序列如SEQ ID NO.4和SEQ ID NO.5所示；所述核酸序列修饰物为在SEQ ID NO.4或SEQ ID NO.5的基础上进行任意核苷酸的核糖修饰或碱基修饰获得的核酸序列修饰物。

本发明的有益效果在于：