[发明专利]一种快速处理内层线路蚀刻后少孔的工艺有效
| 申请号: | 202110819968.7 | 申请日: | 2021-07-20 |
| 公开(公告)号: | CN113556877B | 公开(公告)日: | 2023-01-17 |
| 发明(设计)人: | 张世政;伍进喜 | 申请(专利权)人: | 全成信电子(深圳)股份有限公司 |
| 主分类号: | H05K3/06 | 分类号: | H05K3/06;H05K3/00 |
| 代理公司: | 深圳市深弘广联知识产权代理事务所(普通合伙) 44449 | 代理人: | 向用秀 |
| 地址: | 518000 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 快速 处理 内层 线路 蚀刻 后少孔 工艺 | ||
1.一种快速处理内层线路蚀刻后少孔的工艺,应用在内层板上,其特征在于,包括以下步骤:
S1、将内层蚀刻后少孔的故障板预先打出靶孔;靶孔位置为后续压合多层板时使用的预定位置;在采用PP打孔机将靶孔钻出后,采用耐高温胶带将靶孔的两面均粘贴闭合;
S2、标定少孔位置,并依照少孔位置制备菲林资料;制作菲林资料步骤中,在对应少孔位置再添加0.5mil的补偿,同时在靶孔对应位置进行钻孔;
S3、在故障板上进行微蚀和涂布;利用微蚀工艺先将故障板表面进行清洁,然后经过涂布线,在板面上覆盖一层感光油墨;
S4、贴附菲林资料进行曝光;在贴附菲林资料时,先撕去耐高温胶带,然后对准各自靶孔,用PIN针进行固定;
S5、曝光显影后,故障板的少孔位置有效显示,然后进行少孔位置的蚀刻处理。
2.根据权利要求1所述的一种快速处理内层线路蚀刻后少孔的工艺,其特征在于,在S4进行曝光时,曝光能量尺控制在5-7格,曝光延时控制在10S,且曝光过程中吸真空度在300-500mmhg;将菲林资料上对应少孔位置的设计图形形成到故障板上。
3.根据权利要求2所述的一种快速处理内层线路蚀刻后少孔的工艺,其特征在于,在进行蚀刻时,采用pH在1.4-1.6的酸性蚀刻药剂,且酸蚀过程中环境温度控制在45-55摄氏度。
4.根据权利要求2所述的一种快速处理内层线路蚀刻后少孔的工艺,其特征在于,在S1打出靶孔前,先采用AOI扫描机进行少孔位置进行检测和标记。
5.根据权利要求4所述的一种快速处理内层线路蚀刻后少孔的工艺,其特征在于,在进行蚀刻后,采用AOI扫描机进行孔位的检测。
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