[发明专利]一种芯片的封装结构及其封装方法在审
| 申请号: | 202110806844.5 | 申请日: | 2021-07-16 |
| 公开(公告)号: | CN113451152A | 公开(公告)日: | 2021-09-28 |
| 发明(设计)人: | 鲍漫;王卫军;刘怡 | 申请(专利权)人: | 星科金朋半导体(江阴)有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/50 | 分类号: | H01L21/50;H01L21/52;H01L21/56;H01L23/367;H01L23/04;H01L23/373 |
| 代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 赵华 |
| 地址: | 214434 江苏省无锡*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 芯片 封装 结构 及其 方法 | ||
1.一种芯片的封装结构的封装方法,其工艺步骤如下:
步骤一、提供压制成帽状结构的散热盖(3),其包括帽檐部(31)和帽体部(33);所述帽檐部(31)的下表面与基板(9)连接,所述帽体部(33)呈隆起的内部腔体,在所述帽体部(33)的中央设置凹槽(35);凹槽(35)的尺寸与芯片(7)的尺寸匹配;利用溅射或化学镀的方法在散热盖(3)内侧的凹槽(35)内形成镀金层Ⅰ(41),该镀金层Ⅰ(41)同时布满凹槽(35)的四周槽壁;
步骤二、通过喷洒工艺,再在镀金层Ⅰ(41)上喷洒助焊剂Ⅰ(42);
步骤三、通提供裁切尺寸不大于凹槽(35)尺寸的高导热金属铟片(43),通过助焊剂Ⅰ(42)将高导热金属铟片(43)固定;
步骤四、将装有高导热金属铟片(43)的散热盖(3)放入真空负压回焊炉进行焊接,高导热金属铟片(43)浸润在助焊剂Ⅰ(42)中,经过高温真空负压回焊炉,在助焊剂Ⅰ(42)作用下,高导热金属铟片(43)与散热盖(3)的凹槽(35)内的金属金结合形成金铟共晶层(44),所述金铟共晶层(44)铺满凹槽(35)的底部;
步骤五、通过表面贴装技术,将芯片(7)正面的金属凸块蘸取助焊剂后贴装至基板(9)的焊盘的芯片位置上,将元器件(8)贴装至基板(9)的芯片(7)周边的元器件位置,再通过回流焊将芯片(7)、元器件(8)与基板(9)焊接固连;
步骤六、使用底部填充胶对芯片(7)底部狭窄间距进行填充;
步骤七、利用溅射或化学镀的方法在芯片(7)的背面形成镀金层Ⅱ或镀银层(5);再在镀金层Ⅱ或镀银层(5)的表面喷洒助焊剂Ⅱ(4);
步骤八、在基板(9)上划AD胶(2),AD胶(2)设置在元器件(8)的四周;
步骤九、通过AD胶(2)将焊接好金铟共晶层(44)的散热盖(3)的帽檐部(31)的下表面与基板(9)四周粘结固连,
步骤十、再过回流焊炉,焊接芯片(7)与金铟共晶层(44);所述金铟共晶层(44)浸润在助焊剂Ⅱ(4)中,经过高温真空负压回焊炉,在助焊剂Ⅱ(4)作用下,镀金层Ⅱ或镀银层(5)的金属金或银与金铟共晶层(44)的金属铟再次形成金铟共晶层或金银铟共晶层(45);
步骤十一、在基板(9)的背面焊盘上植低温球(1),过回流焊炉焊接低温球。
2.根据权利要求1所述的封装方法,其特征在于,步骤四中,使用陶瓷压头适当低压来确保金铟共晶层(44)冷却后的表面平整度。
3.根据权利要求1所述的封装方法,其特征在于,所述镀金层Ⅰ(41)的厚度为0.04~0.2微米。
4.根据权利要求1所述的封装方法,其特征在于,所述助焊剂Ⅰ(42)为有机酸助焊剂。
5.根据权利要求1所述的封装方法,其特征在于,所述助焊剂Ⅱ(4)为有机酸助焊剂。
6.根据权利要求1所述的封装方法,其特征在于,所述元器件(8)包括电容、电阻、电感。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的封装方法,其特征在于,所述散热盖(3)的外侧面设置散热结构,所述散热结构包括若干条凹槽,所述凹槽呈平行状、米字状、同心圆状。
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