[发明专利]阻隔膜及包含该阻隔膜的量子点膜在审

专利信息
申请号: 202110798027.X 申请日: 2021-07-15
公开(公告)号: CN115616808A 公开(公告)日: 2023-01-17
发明(设计)人: 王江峰 申请(专利权)人: 苏州怡特欧新材料科技有限公司
主分类号: G02F1/13357 分类号: G02F1/13357
代理公司: 上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙) 31297 代理人: 何艳娥
地址: 215006 江苏省苏州市苏州工*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 阻隔 包含 量子
【权利要求书】:

1.阻隔膜,其特征在于,包括依次层叠设置高聚物基材层、阻隔层、扩散层。

2.如权利要求1所述的阻隔膜,其特征在于,所述高聚物基材层为PET基材层。

3.如权利要求1所述的阻隔膜,其特征在于,所述阻隔层为真空沉积于所述高聚物基材层一面的致密无机氧化物层。

4.如权利要求3所述的阻隔膜,其特征在于,所述致密无机氧化物层为氧化硅层或氧化铝层。

5.如权利要求1所述的阻隔膜,其特征在于,所述阻隔层的厚度为10~200nm。

6.如权利要求1所述的阻隔膜,其特征在于,所述扩散层为掺杂有无机纳米粒子的光固化树脂层。

7.如权利要求6所述的阻隔膜,其特征在于,所述无机纳米粒子为二氧化硅纳米粒子或二氧化钛纳米粒子。

8.如权利要求6所述的阻隔膜,其特征在于,所述光固化树脂层为聚氨酯丙烯酸酯层、聚酯丙烯酸酯层、环氧丙烯酸酯层、多元醇丙烯酸酯层、环氧树脂层中的任意一种。

9.如权利要求1所述的阻隔膜,其特征在于,所述扩散层的厚度为1~10μm。

10.量子点膜,包括量子点层,其特征在于,还包括如权利要求1-9任一项所述的阻隔膜,所述量子点层两面均设有所述阻隔膜。

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