[发明专利]一种防眩光低反射膜及其制作方法在审
| 申请号： | 202110791096.8 | 申请日： | 2021-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN113699496A | 公开（公告）日： | 2021-11-26 |
| 发明（设计）人： | 周伟杰 | 申请（专利权）人： | 信利光电股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/10;C23C14/02;G02B1/10;G02B1/11 |
| 代理公司： | 北京德崇智捷知识产权代理有限公司 11467 | 代理人： | 王欣 |
| 地址： | 516600 广东省汕*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 眩光 反射 及其 制作方法 | ||
1.一种防眩光低反射膜的制作方法，其特征在于，包括步骤：
步骤S10，在衬底上喷涂防眩光涂层；
步骤S20，将衬底置于预固化设备中，对所述防眩光涂层进行加热预固化；
步骤S30，使衬底进入磁控溅射设备的真空腔体中，调整所述磁控溅射设备的高低折射率靶材的溅射功率和ICP的离化功率，以空镀方式对所述防眩光涂层进行第一次固化；
步骤S40，在所述磁控溅射设备中进行磁控溅射镀膜，使在所述防眩光涂层上形成减反射膜层，且使所述防眩光涂层进行第二次固化。
2.根据权利要求1所述的防眩光低反射膜的制作方法，其特征在于，所述高低折射率靶材的溅射功率和所述ICP的离化功率在磁控溅射镀膜时与空镀时相同。
3.根据权利要求1所述的防眩光低反射膜的制作方法，其特征在于，所述防眩光涂层在加热预固化时的温度与空镀时的温度差大于40℃。
4.根据权利要求3所述的防眩光低反射膜的制作方法，其特征在于，所述防眩光涂层在加热预固化时的温度不高于80℃，而在空镀时的温度不低于100℃。
5.根据权利要求4所述的防眩光低反射膜的制作方法，其特征在于，所述防眩光涂层在加热预固化时的温度为60-80℃。
6.根据权利要求5所述的防眩光低反射膜的制作方法，其特征在于，所述防眩光涂层在空镀时的温度为100-150℃。
7.根据权利要求6所述的防眩光低反射膜的制作方法，其特征在于，加热预固化时所用的时间小于空镀时所用的时间和磁控溅射镀膜时所用的时间。
8.根据权利要求7所述的防眩光低反射膜的制作方法，其特征在于，加热预固化时所用的时间为6-8min。
9.根据权利要求8所述的防眩光低反射膜的制作方法，其特征在于，空镀时所用的时间为30-45min。
10.根据权利要求9所述的防眩光低反射膜的制作方法，其特征在于，磁控溅射镀膜时所用的时间为30-45min。
11.根据权利要求1-10中任一项所述的防眩光低反射膜的制作方法，其特征在于，所述高低折射率靶材的溅功率大于或等于12KW，所述ICP的离化功率大于4KW。
12.根据权利要求1-10中任一项所述的防眩光低反射膜的制作方法，其特征在于，所述防眩光涂层的材质为氧化硅。
13.一种根据权利要求1-12中任一项所述的制作方法制作的防眩光低反射膜，其特征在于，包括：
衬底；
防眩光涂层，所述防眩光涂层喷涂在所述衬底上；
减反射膜层，所述减反射膜层镀设在所述防眩光涂层。
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