[发明专利]一种跟随下料机构

权利要求书

1.一种跟随下料机构，其特征在于：包括机架，所述机架上设置有旋转架，旋转架连接有旋转驱动装置，旋转架上沿周向均匀的设置有若干下料机构；

所述下料机构包括与旋转架连接的安装板以及可升降的设置在安装板上的漏斗；

所述机架上沿周向设置有用于限制漏斗高度的低位托板与高位托板，低位托板与高位托板之间设置有用于实现漏斗升降的升降机构。

2.根据权利要求1所述的一种跟随下料机构，其特征在于：所述漏斗上固定设置有滑块，滑块上设置有导向槽轮，所述安装板上配合导向槽轮设置有竖直导向杆。

3.根据权利要求1所述的一种跟随下料机构，其特征在于：所述旋转架上转动设置有竖直轴，所述安装板固定在竖直轴上，竖直轴与机架之间设置有偏移调整机构；

所述偏移调整机构包括摆杆以及固定设置在机架上的调整圆环，调整圆环与旋转架同轴设置，所述摆杆的一侧与所述竖直轴固定连接，摆杆的另一侧设置有抵靠部，摆杆与旋转架之间设置有趋向于迫使所述抵靠部贴靠在调整圆环上的弹性件。

4.根据权利要求3所述的一种跟随下料机构，其特征在于：所述调整圆环上设置有凸起部和/或凹陷部。

5.根据权利要求1所述的一种跟随下料机构，其特征在于：所述升降机构包括翘板，翘板的中部通过水平转轴与机架铰接，翘板与机架之间设置有用于驱动翘板的两端上下摆动的升降驱动机构，所述漏斗与翘板的端部之间设置有联锁机构。

6.根据权利要求5所述的一种跟随下料机构，其特征在于：所述联锁机构包括与漏斗固定连接的浮动支撑板，浮动支撑板的底部设置有可以在低位托板与高位托板上行走的滚轮，所述翘板的两端均配合滚轮设置有滚轮托件与滚轮下拉件；

当所述滚轮托件处于下极限位置的时候，滚轮托件的表面与低位托板的表面相平；

当所述滚轮托件处于上极限位置的时候，滚轮托件的表面与高位托板的表面相平。

7.根据权利要求6所述的一种跟随下料机构，其特征在于：所述滚轮的旁边设置有跟随式毛刷结构。

8.根据权利要求2所述的一种跟随下料机构，其特征在于：所述滑块上配合漏斗设置有夹手组件。

9.根据权利要求8所述的一种跟随下料机构，其特征在于：所述夹手组件包括分别设置于漏斗两侧的夹手臂，夹手臂与所述滑块固定连接，夹手臂上设置有与漏斗的出料口位置相对应的夹手单元；

所述夹手单元包括夹手安装座、第一夹爪、第二夹爪、第一连杆、第二连杆以及驱动滑块，所述第一夹爪与第二夹爪的底部贴合设置，第一夹爪与第二夹爪的中部分别与安装座铰接，第一夹爪的顶部与第一连杆的一端铰接，第一连杆的另一端与驱动滑块的一侧铰接，第二夹爪的顶部与第二连杆的一端铰接，第二连杆的另一端与驱动滑块的另一侧铰接，所述安装座上设置有用于使得驱动滑块上下移动的夹持气缸。

10.根据权利要求1所述的一种跟随下料机构，其特征在于：所述旋转架上设置有充氮机构，所述充氮机构包括安装在旋转架顶部的支撑架，所述支撑架的外侧设置有与漏斗位置相对应的充氮单元；

所述充氮单元包括沿竖直方向设置的充氮管，充氮管可上下移动的设置在支撑架上并且充氮管的底部延伸至所述漏斗内。