[发明专利]辐照系统在审
申请号: | 202110786851.3 | 申请日: | 2021-07-12 |
公开(公告)号: | CN113470861A | 公开(公告)日: | 2021-10-01 |
发明(设计)人: | 崔爱军;张立锋;朱志斌;窦玉玲;刘保杰;秦成 | 申请(专利权)人: | 中国原子能科学研究院 |
主分类号: | G21K5/00 | 分类号: | G21K5/00;G21K5/10;A61L2/08 |
代理公司: | 北京市创世宏景专利商标代理有限责任公司 11493 | 代理人: | 刘向辉 |
地址: | 102413 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 辐照 系统 | ||
1.一种辐照系统,其特征在于,包括:
辐照装置(100),用于形成辐照被辐照物的辐照区;
束下传输系统(200),用于将所述被辐照物运输至所述辐照区;
辐照通道(300),用于放置所述辐照装置(100)和所述束下传输系统(200);
屏蔽装置(400),设置于束下传输系统(200)的两侧及顶部,以屏蔽所述辐照装置(100)产生的辐射射线;
其中,所述辐照通道(300)为回字型迷宫通道。
2.根据权利要求1所述的辐照系统,其特征在于,所述屏蔽装置(400)包括:
外层屏蔽体(410),所述外层屏蔽体(410)安装于所述束下传输系统(200)的四周和顶部,以屏蔽所述辐照装置(100)产生的射线。
3.根据权利要求2所述的辐照系统,其特征在于,
所述外层屏蔽体(410)包括依次连接的第一外层屏蔽体(411)、第二外层屏蔽体(412)、第三外层屏蔽体(413)、第四外层屏蔽体(414)和第五外层屏蔽体(415),以围成放置所述辐照系统的空间。
4.根据权利要求3所述的辐照系统,其特征在于,
所述第一外层屏蔽体(411)与所述第二外层屏蔽体(412)垂直设置;
所述第二外层屏蔽体(412)与所述第三外层屏蔽体(413)垂直设置;
所述第三外层屏蔽体(413)与所述第四外层屏蔽体(414)垂直设置;
所述第四外层屏蔽体(414)与所述第五外层屏蔽体(415)垂直设置。
5.根据权利要求4所述的辐照系统,其特征在于,
所述第二外层屏蔽体(412)与所述第四外层屏蔽体(414)位于所述第三外层屏蔽体(413)的同一侧;
所述第一外层屏蔽体(411)与所述第三外层屏蔽体(413)位于所述第二外层屏蔽体(412)的同一侧;
所述第三外层屏蔽体(413)与所述第五外层屏蔽体(415)位于所述第四外层屏蔽体(414)的同一侧。
6.根据权利要求5所述的辐照系统,其特征在于,所述第二外层屏蔽体(412)的长度与所述第四外层屏蔽体(414)的长度相等。
7.根据权利要求5所述的辐照系统,其特征在于,
所述第三外层屏蔽体(413)包括依次连接的第一外层模块(4131)、第二外层模块(4132)和第三外层模块(4133);
其中,所述第一外层模块(4131)与所述第二外层那个屏蔽体连接;
所述第三外层模块(4133)与所述第四外层屏蔽体(414)连接。
8.根据权利要求2所述的辐照系统,其特征在于,所述外层屏蔽体(410)为“口”字型结构。
9.根据权利要求2所述的辐照系统,其特征在于,所述屏蔽装置(400)还包括:
中层屏蔽体(420),所述中层屏蔽体(420)安装于所述外层屏蔽体(410)的内部,以屏蔽所述辐照装置(100)产生的射线。
10.根据权利要求9所述的辐照系统,其特征在于,所述中层屏蔽体(420)包括依次连接的第一中层屏蔽体(421)、第二中层屏蔽体(422)和第三中层屏蔽体(423)。
11.根据权利要求10所述的辐照系统,其特征在于,
自所述第二中层屏蔽体(422)向所述外层屏蔽体(410)延伸设置有隔断屏蔽体(424),所述隔断屏蔽体(424)与所述第二中层屏蔽体(422)垂直。
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