[发明专利]辐照杀菌系统在审
| 申请号: | 202110786850.9 | 申请日: | 2021-07-12 |
| 公开(公告)号: | CN113470860A | 公开(公告)日: | 2021-10-01 |
| 发明(设计)人: | 吕约澎;崔爱军;朱志斌;张立锋;窦玉玲;杨誉 | 申请(专利权)人: | 中国原子能科学研究院 |
| 主分类号: | G21K5/00 | 分类号: | G21K5/00;G21K5/10;A61L2/08 |
| 代理公司: | 北京市创世宏景专利商标代理有限责任公司 11493 | 代理人: | 刘向辉 |
| 地址: | 102413 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 辐照 杀菌 系统 | ||
1.一种辐照杀菌系统,其特征在于,包括:
屏蔽装置(100),所述屏蔽装置内形成有通道(101),所述通道(101)呈“己”字形;
传输装置(200),沿所述通道(101)设置于所述屏蔽装置(100)内;
加速器,设置于所述通道(101)上,用于产生用以辐照杀菌的电子束;其中,所述屏蔽装置(100)用于对所述电子束进行屏蔽。
2.如权利要求1所述的系统,其特征在于,所述屏蔽装置(100)包括:
第一屏蔽组合体(110)和第二屏蔽组合体(120),所述第一屏蔽组合体(110)和第二屏蔽组合体(120)组合以形成预定宽度的所述己字形的通道(101)。
3.如权利要求2所述的系统,其特征在于,
所述第一屏蔽组合体(110)呈倒U形;
所述第二屏蔽组合体(120)呈U形;
所述第一屏蔽组合体(110)的一个U形侧边部分地插入至所述第二屏蔽组合体(120)的U形开口,所述第二屏蔽组合体(120)的一个U形侧边部分地插入至所述第一屏蔽组合体(110)的U形开口。
4.如权利要求3所述的系统,其特征在于,所述第一屏蔽组合体(110)的另一个U形侧边垂直设置有第一屏蔽体(111),所述第一屏蔽体(130)位于所述U形的第一屏蔽组合体(110)内部。
5.如权利要求4所述的系统,其特征在于,所述第二屏蔽组合体(120)的所述一个U形侧边垂直设置有第五屏蔽体(170)和第六屏蔽体(180),所述第五屏蔽体(170)和第六屏蔽体(180)分别位于所述第一屏蔽体(130)两侧。
6.如权利要求3所述的系统,其特征在于,所述第二屏蔽组合体(120)的另一个U形侧边垂直设置有第四屏蔽体(160),所述第四屏蔽体(160)位于所述U形的第二屏蔽组合体(120)内部。
7.如权利要求6所述的系统,其特征在于,所述第一屏蔽组合体(110)的所述一个U形侧边垂直设置有第二屏蔽体(140)和第三屏蔽体(150),所述第二屏蔽体(140)和第三屏蔽体(150)分别位于所述第四屏蔽体(160)两侧。
8.如权利要求1所述的系统,其特征在于,所述加速器包括:
第一加速器(310),设置于所述第一屏蔽组合体(110)的U形的底边与第五屏蔽体(170)之间的通道上,用于产生自上而下的电子束。
9.如权利要求8所述的系统,其特征在于,所述加速器还包括:
第二加速器(320),设置于所述屏蔽装置(100)内的中心位置,用于产生自下而上的电子束。
10.如权利要求9所述的系统,其特征在于,所述第二加速器(320)设置于所述第一屏蔽组合体(110)的所述一个U形侧边和所述第二屏蔽组合体(120)的所述一个U形侧边之间的通道中。
11.如权利要求2-9任一项所述的系统,其特征在于,所述第一屏蔽组合体(110)的厚度随所述第一屏蔽组合体(110)与所述加速器之间的距离的增加而减小;
和/或,所述第二屏蔽组合体(120)的厚度随所述第二屏蔽组合体(120)与所述加速器之间的距离的增加而减小。
12.如权利要求1所述的系统,其特征在于,所述屏蔽装置(100)呈四边形,
所述屏蔽装置(100)还具有入口(102)和出口(103),所述入口(102)和所述出口(103)分别设置于所述屏蔽装置(100)的相对的两个角。
13.如权利要求1所述的系统,其特征在于,还包括:
功率源(500),所述功率源(500)设置于所述屏蔽装置(100)内,用于产生微波功率并提供给所述加速器。
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