[发明专利]半导体封装方法在审
申请号: | 202110781001.4 | 申请日: | 2021-07-09 |
公开(公告)号: | CN113594051A | 公开(公告)日: | 2021-11-02 |
发明(设计)人: | 郜振豪;杨清华;唐兆云;赖志国 | 申请(专利权)人: | 苏州汉天下电子有限公司 |
主分类号: | H01L21/50 | 分类号: | H01L21/50 |
代理公司: | 北京蓝智辉煌知识产权代理事务所(普通合伙) 11345 | 代理人: | 陈红;陈轶兰 |
地址: | 215121 江苏省苏州市苏州工业园区金*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 封装 方法 | ||
1.一种半导体封装方法,包括:
提供基板,包括暴露在阻焊层外的至少一个芯片安装区和芯片安装区周围的多个焊盘区;
在基板上形成保护膜,覆盖至少一个芯片安装区、多个焊盘区和阻焊层;
去除部分保护膜,暴露至少一个芯片安装区;
在至少一个芯片安装区上涂覆粘结剂,放置芯片,并固化粘结剂;
去除剩余的保护膜,暴露多个焊盘区;
在多个焊盘区执行引线键合。
2.根据权利要求1所述的半导体封装方法,其中,基板是有机载板、无机载板、载带封装基板或引线框架;保护膜是DAF膜、、光敏树脂或热敏树脂;粘结剂是导电胶或非导电胶。
3.根据权利要求2所述的半导体封装方法,其中,光敏树脂是UV膜或蓝膜;非导电胶是环氧树脂胶或玻璃胶。
4.根据权利要求1所述的半导体封装方法,其中,去除剩余的保护膜的步骤在放置芯片之后、固化粘结剂之前进行;去除部分保护膜的步骤和/或去除剩余的保护膜的步骤采用机械冲压、激光剥离、UV光照、电子束照射或红外线照射。
5.根据权利要求1所述的半导体封装方法,其中,保护膜的厚度为大于0且小于或等于100微米。
6.根据权利要求1所述的半导体封装方法,其中,在至少一个芯片安装区的边界上局部地增大保护膜的厚度而形成挡堤。
7.根据权利要求1所述的半导体封装方法,其中,至少一个芯片安装区的周围具有一个或多个溢流保护槽。
8.根据权利要求1所述的半导体封装方法,其中,形成保护膜的步骤进一步包括,涂覆液态保护膜材料期间在溶液中加入改性颗粒并随后固化、或者在贴合购买的保护膜之前在基板顶面上或保护膜底面上涂布改性颗粒并加热使其扩散,从而至少在所述至少一个芯片安装区内以及周围的保护膜中掺杂负热膨胀介质材料的改性颗粒。
9.根据权利要求1所述的半导体封装方法,其中,粘结剂与所述至少一个芯片安装区的边界之间的距离大于或等于保护膜厚度的10%至100%。
10.根据权利要求1所述的半导体封装方法,其中,当采用加热去除保护膜时稍后的去除剩余保护膜的步骤所采用的温度低于此前去除部分保护膜的步骤所采用的温度,当采用辐照去除保护膜时稍后的去除剩余保护膜的步骤所采用的辐射能量低于此前去除部分保护膜的步骤所采用的辐射能量,当采用机械剥离去除保护膜时稍后的去除剩余保护膜的步骤所采用的力低于此前去除部分保护膜的步骤所采用的力。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造