[发明专利]带反射投影图像首饰的制备方法及该方法制备的首饰在审

专利信息
申请号: 202110779705.8 申请日: 2021-07-09
公开(公告)号: CN113455796A 公开(公告)日: 2021-10-01
发明(设计)人: 周昭锦 申请(专利权)人: 周昭锦
主分类号: A44C27/00 分类号: A44C27/00;A44C9/00
代理公司: 深圳市爱迪森知识产权代理事务所(普通合伙) 44341 代理人: 何婷;葛增娴
地址: 518000 广东省深圳市罗*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 反射 投影 图像 首饰 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种带反射投影图像首饰的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

获取设计图像;

确定走刀轨迹:将加工件安装于数控机床上,根据所述设计图像,确定所述加工件的加工面,在所述加工面的第一方向上划分为多个弧线走刀轨迹,多个所述弧线走刀轨迹沿着所述第一方向依次间隔设置,并且每一所述弧线走刀轨迹在所述加工面的第二方向上为连续或间断的,所述第二方向与所述第一方向相垂直;

设置刀具参数:在数控机床上设置刀具的加工参数;

切削加工:依次沿着所述弧线走刀轨迹对所述加工面进行切削,同时向所述加工面和所述刀具喷切削液,以在所述加工面形成有多个微尺寸弧形槽组成的阵列图像,所述阵列图像在光线照射下,可以在投影面上显现出来。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述加工参数包括刀具的转速、进给量和进给速度,所述转速为2000-2500rpm,所述进给量为0.1-0.3mm,所述进给速度为200-300mm/min。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述加工参数还包括刀具的加工深度,所述加工深度为0.1-1.0mm。

4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述刀具的半径为5-8mm。

5.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述弧线走刀轨迹的半径为25-60mm。

6.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述第一方向为所述弧线走刀轨迹的径向方向,所述第二方向为所述弧线走刀轨迹两端的延伸方向,所述弧线走刀轨迹的半径均相同。

7.根据权利要求1-6任一项所述的方法,其特征在于,在所述第一方向上,所述弧形槽的底部深度由中间向两侧逐渐减小,所述弧形槽的底部在中间位置的最大深度为所述加工深度。

8.根据权利要求1-6任一项所述的方法,其特征在于,在所述第一方向上,所述弧形槽的宽度D与相邻两个所述弧线走刀轨迹之间的间距S满足以下关系式:0.5D≤S≤1.5D,其中,D和S均为正数。

9.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述弧形槽的宽度D为0.5-2mm。

10.一种首饰,其特征在于,通过如权利要求1-7任一项所述的方法制备获得。

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