[发明专利]烧结钕铁硼磁体的表面涂覆工艺和设备

权利要求书

1.一种烧结钕铁硼磁体的表面涂覆工艺，其特征在于，包括：

对涂料施加扰动，以使所述涂料液面的局部区域相对于所述局部区域的周边区域凸起；其中，所述涂料含有含稀土元素的粉末；

向所述涂料传送所述磁体，使所述磁体的下表面的待涂覆部位与所述局部区域接触，从而将所述涂料涂覆于所述待涂覆部位；

对涂覆有所述涂料的磁体进行热处理。

2.如权利要求1所述的烧结钕铁硼磁体的表面涂覆工艺，其特征在于，所述对涂料施加扰动，以使所述涂料液面的局部区域相对于所述局部区域的周边区域凸起，包括：

对所述涂料施加搅拌，以使所述涂料产生自下而上的循环流动，从而使所述涂料液面的局部区域相对于所述局部区域的周边区域凸起。

3.如权利要求2所述的烧结钕铁硼磁体的表面涂覆工艺，其特征在于，所述涂料盛放于容器内，所述容器内部设置有上下贯通的导流通道，所述导流通道与容器壁之间保留供所述涂料循环流动的空间；

所述对所述涂料施加搅拌，以使所述涂料产生自下而上的循环流动，从而使所述涂料液面的局部区域相对于所述局部区域的周边区域凸起，包括：

在所述导流通道的内部向所述涂料施加搅拌，以使所述涂料产生从所述导流通道的下部流入而从所述导流通道的上部流出的循环流动，从而使所述涂料液面在所述导流通道的上方的局部区域相对于所述局部区域的周边区域凸起。

4.如权利要求1所述的烧结钕铁硼磁体的表面涂覆工艺，其特征在于，所述向所述涂料传送所述磁体，使所述磁体的下表面的待涂覆部位与所述局部区域接触，从而将所述涂料涂覆于所述待涂覆部位，包括：

传送所述磁体，使所述磁体的下表面浸入至所述局部区域以下一定深度，从而将所述涂料涂覆于所述待涂覆部位。

5.如权利要求4所述的烧结钕铁硼磁体的表面涂覆工艺，其特征在于，所述含稀土元素的粉末为稀土氧化物粉末、稀土氟化物粉末、稀土单质粉末和含有稀土元素的合金粉末中的一种或者几种所组成的混合物；其中，所述稀土氧化物为Tb₂O₃，Dy₂O₃，Pr₆O₁₁，Nd₂O₃和CeO₂中的一种或者几种的混合物，所述稀土氟化物为TbF₃，DyF₃，PrF₃和NdF₃中的一种或者几种的混合物，所述含稀土元素的合金含有Fe，Al，Cu，Ga，Ti，Zr和Nd中一种或几种金属元素，所述稀土单质为Tb，Dy，Pr，Nd，Ce，Ho和Gd中的一种或者几种的混合物。

6.一种烧结钕铁硼磁体的表面涂覆设备，其特征在于，包括：

容器，其内盛放有涂料；

扰流装置，其设置于所述容器，用于对所述涂料施加扰动，以使所述涂料液面的局部区域相对于所述局部区域的周边区域凸起；

传送装置，其设置于所述容器上方，所述传送装置包括驱动机构以及用于运载所述磁体的运载机构，所述运载机构具有供所述磁体的下表面的待涂覆部位暴露于外的结构，所述驱动机构连接至所述运载机构，用于驱动所述运载机构行进至所述涂料上方，以使所述磁体的下表面的待涂覆部位与所述局部区域接触；以及

磁体热处理装置。

7.如权利要求6所述的烧结钕铁硼磁体的表面涂覆设备，其特征在于，所述扰流装置包括搅拌机构，所述搅拌机构设置于所述容器内部，所述搅拌机构用于对所述涂料施加搅拌，以使所述涂料产生自下而上的循环流动，从而使所述涂料液面的局部区域相对于所述局部区域的周边区域凸起。

8.如权利要求7所述的烧结钕铁硼磁体的表面涂覆设备，其特征在于，所述扰流装置包括上下贯通的导流通道，所述导流通道设置于所述容器内部，所述导流通道与容器壁之间保留供所述涂料循环流动的空间，所述搅拌机构设置于所述导流通道的内部。