[发明专利]一种层状吸波材料及其制备方法

权利要求书

1.一种层状吸波材料的制备方法，其特征在于，所述层状吸波材料包括基底层、形成在所述基底层上的损耗层和形成在所述损耗层上的高分子碳化层；所述制备方法包括以下步骤：

(1)激光碳化高分子膜形成碳化物构成所述基底层，并在所述基底层上涂布金属盐的混合物溶液；

(2)激光处理所述金属盐的混合物溶液以形成所述损耗层，并在所述损耗层上涂布高分子聚合物溶液；

(3)激光加工所述高分子聚合物溶液以形成所述高分子碳化层；

(4)若所述损耗层大于1层，所述高分子碳化层大于1层，则重复步骤(2)和(3)以在所述基底层上形成所述损耗层和所述高分子碳化层交替层叠的叠加层；

(5)将经过步骤(1)～(4)后得到的材料进行退火处理，制得所述层状吸波材料。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述步骤(1)～(3)中的激光参数各自独立地设置为：扫描速度为10-10000mm/s，激光功率为10mw-100kw，扫描间距为1-100μm，脉宽为1ps-1ms，离焦量为0-100mm，重复频率为1KHz-100MHz，激光聚焦光斑直径为1μm-1000μm。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述步骤(5)中的退火工艺的退火温度为100-1000℃，退火时间为1-24h。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于：所述退火温度为200-400℃。

5.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于：所述退火时间为2-8h。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述步骤(1)中的所述高分子膜为PI膜、PET膜、PP膜、PEI膜，聚醚醚酮、酚醛树脂、PE膜、PC膜、PS膜和PVC膜中的至少一种，所述高分子膜的厚度为10-300μm。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于：所述步骤(1)中的所述高分子膜为PI膜、PEI膜和PET膜中的至少一种。

8.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于：所述高分子膜的厚度为50-150μm。

9.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述金属盐的混合物溶液包括金属盐、导电添加剂、表面活性剂和用于溶解所述金属盐的溶剂，其中，以金属盐、导电添加剂和表面活性剂三者的总质量计，金属盐的质量分数为1-30％，导电添加剂的质量分数为0.1-10％以及表面活性剂的质量分数为60-95％，并且金属盐与用于溶解所述金属盐的溶剂的质量比为1：5-50。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于：

所述金属盐为Ni盐、Co盐、Fe盐、Zn盐、Ti盐、Mo盐和Ba盐中的至少一种；

所述导电添加剂为石墨烯、碳纳米管、金属纳米线、还原氧化石墨烯、Mxene、和导电碳黑中的至少一种；

所述表面活性剂为十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)、十二烷基硫酸钠(SDS)、聚乙烯醇(PVA)、十二烷基苯磺酸钠(SDBS)、聚丙烯酰胺(PAM)、聚乙二醇(PEG)、十二烷基磺酸钠(SDS)、油酸钠、脂肪醇聚氧乙烯醚、硬脂酸、烷基酚聚氧乙烯醚、羟丙基纤维素(HPC)、聚氧乙烯硬脂酸酯中的至少一种；

所述用于溶解所述金属盐的溶剂为N-甲基吡咯烷酮、异丙醇、N，N-二甲基甲酰胺、二甲基亚砜、乙二醇、丙酮、乙醚、吡啶、甲醇、氯仿、丁醇、丙醇、正戊烷、水和乙醇中的至少一种。

11.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述步骤(3)中的高分子聚合物溶液包括高分子聚合物和用于溶解或稀释所述高分子聚合物的溶剂，其中，高分子聚合物与用于溶解或稀释所述高分子聚合物的溶剂的质量比为1:0-50。