[发明专利]显示面板及显示装置有效
| 申请号: | 202110767311.0 | 申请日: | 2021-07-07 |
| 公开(公告)号: | CN113555395B | 公开(公告)日: | 2022-11-01 |
| 发明(设计)人: | 吕磊;金蒙;袁涛;黄金昌 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/52 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 蔡艾莹 |
| 地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 显示 面板 显示装置 | ||
本发明提供一种显示面板及显示装置。显示面板包括第一显示区,第一显示区包括相邻的第一透光区和第一发光区;显示面板包括衬底、阴极抑制层、阴极及偏光片,阴极抑制层包括位于第一透光区内的第一阴极抑制部,阴极位于第一发光区和第一透光部内并覆盖至少部分第一阴极抑制部;偏光片包括位于第一透光区内的第一透光部,第一透光部在衬底上的正投影位于第一阴极抑制部在衬底上的正投影的边界内,以提高第一显示区的透光率,有利于降低光线透过第一透光区时,偏光片及阴极对光线造成的损失,进而改善光学元件的工作质量。
技术领域
本申请涉及显示技术领域,具体涉及一种显示面板及一种显示装置。
背景技术
为实现全面屏显示,会将光学元件设置在显示屏下。但现有的有机发光显示装置中,阴极采用整面设置,光线透过偏光片及阴极时的损失较大,从而导致使光学元件只能接收具有损失的光信号,影响光学元件的工作质量。
发明内容
本发明实施例提供一种显示面板及一种显示装置,以改善光线透过偏光片及阴极时损失较大,影响光学元件工作质量的问题。
本发明提供一种显示面板,所述显示面板包括第一显示区和位于所述第一显示区外围的第二显示区,所述第一显示区的透光率大于所述第二显示区的透光率,所述第一显示区包括相邻的第一透光区和第一发光区。所述显示面板包括:衬底、阴极抑制层、阴极以及偏光片。所述阴极抑制层设于所述衬底上,所述阴极抑制层包括位于所述第一透光区内的第一阴极抑制部。所述阴极位于所述第一发光区和所述第一透光区内并覆盖至少部分所述第一阴极抑制部。所述偏光片位于所述阴极上,所述偏光片包括位于所述第一透光区内的第一透光部,所述第一透光部位于所述第一阴极抑制部的上方。其中,所述第一透光部在所述衬底上的正投影位于所述第一阴极抑制部在所述衬底上的正投影的边界内。
本发明还提供一种显示面板的制备方法,所述显示面板包括第一显示区及位于所述第一显示区外围的第二显示区,所述第一显示区包括相邻的第一透光区和第一发光区,所述显示面板的制备方法包括:
步骤S10:提供一衬底,在所述衬底上制备阴极抑制层;其中,所述阴极抑制层包括位于所述第一透光区内的第一阴极抑制部;
步骤S20:在所述衬底及所述阴极抑制层上制备阴极;其中,所述阴极位于所述第一发光区和所述第一透光区内并覆盖至少部分所述第一阴极抑制部;
步骤S30:在所述阴极及所述阴极抑制层上制备偏光片;其中,所述偏光片包括位于所述第一透光区内的第一透光部,所述第一透光部位于所述第一阴极抑制部的上方,所述第一透光部在所述衬底上的正投影位于所述第一阴极抑制部在所述衬底上的正投影的边界内。
本发明还提供一种显示装置,包括任一上述的显示面板或如上述的显示面板的制备方法制备得到的显示面板。
在本发明提供的显示面板及显示装置中,通过在显示面板中设置阴极抑制层,使阴极位于第一发光区和第一透光区内并覆盖至少部分第一阴极抑制部,阴极抑制层的透光率大于阴极的透光率,可降低阴极对第一透光区透光率的影响。通过在偏光片正对第一阴极抑制部的部分设置第一透光部,以使第一透光区的透光率大于第一发光区及第二显示区的透光率,从而进一步提高第一显示区的透光率,有利于降低光线透过第一透光区时,偏光片及阴极对光线造成的损失,进而改善光学元件的工作质量。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1A~图1B是本发明实施例提供的显示面板的结构示意图;
图2A~图2D是本发明实施例提供的第一阴极抑制部与第一透光部的结构示意图;
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H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
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