[发明专利]磁带及磁记录回放装置

说明书

本发明提供一种磁带以及包括该磁带的磁记录回放装置，所述磁带在非磁性支撑体上具有包含强磁性粉末及粘结剂的磁性层，其中，磁性层包含氧化物研磨剂，根据对磁性层的表面照射聚焦离子束来获取的二次离子像求出的上述氧化物研磨剂的平均粒径为0.04μm以上且0.08μm以下，且在磁性层的面内方向上测量的折射率Nxy与在磁性层的厚度方向上测量的折射率Nz的差分的绝对值ΔN为0.25以上且0.40以下。

本申请是2020年3月27日递交的中国专利申请No.201880062980.4(国际申请号为PCT/JP2018/033530，发明名称：磁带及磁记录回放装置)的分案申请。

技术领域

本发明涉及一种磁带及磁记录回放装置。

背景技术

磁记录介质中有带状和盘状，在数据存储用途中主要使用带状的磁记录介质即磁带。通常，通过使磁带的表面(磁性层表面)与磁头接触并滑动来进行对磁带的信息记录和/或回放。作为磁带，广泛使用在非磁性支撑体上设置有除了强磁性粉末及粘结剂以外还包含研磨剂的磁性层的结构的磁带(例如参考专利文献1)。

以往技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2005-243162号公报

发明内容

发明要解决的技术课题

作为对磁带要求的性能之一，可举出将记录于磁带的信息回放时能够发挥优异的电磁转换特性。然而，若在重复磁性层表面与磁头的滑动时，导致磁性层表面和/或磁头被刮削，则有可能产生磁性层表面与磁头的回放元件之间的距离变宽的现象(所谓间距损失)。关于这一点，例如专利文献1中所记载，使磁性层含有研磨剂有助于通过研磨剂对磁性层表面带来磁头清洁性。通过对磁性层表面带来磁头清洁性，能够抑制因磁性层表面被刮削而产生的异物夹杂于磁性层表面与磁头之间而产生间距损失。然而，另一方面，越提高磁性层表面的磁头清洁性，磁头通过与磁性层表面的滑动而越容易被刮削，因此仍然会产生间距损失。这种间距损失会成为重复回放记录于磁带的信息时电磁转换特性劣化的现象(以下，也称为“在重复回放时的电磁转换特性的降低”。)的原因。

然而，近年来，用于数据存储用途的磁带有时在温度及湿度被管理的数据中心等低温低湿环境下(例如温度10～15℃且相对湿度10～20％程度的环境下)使用。但是，从降低用于管理温度及湿度的空调成本的观点考虑，期望能够比现在更放宽使用时的温度及湿度的管理条件，或者不需要进行管理。

鉴于以上，本发明人等研究了放宽使用磁带时的温度及湿度的管理条件或不需要对其进行管理。其结果，明确了在放宽温度及湿度的管理条件或不需要对其进行管理的环境下(以下，记载为“高温高湿环境下”。)，容易发生在重复回放时的电磁转换特性的降低。另外，高温高湿环境下为例如，气氛温度30～45℃且相对湿度65％以上(例如65～90％)的环境下。

因此，本发明的目的在于提供一种抑制了在高温高湿环境下的重复回放时的电磁转换特性的降低的磁带。

用于解决技术课题的手段

本发明的一方式涉及一种磁带，其在非磁性支撑体上具有包含强磁性粉末及粘结剂的磁性层，其中，

上述磁性层包含氧化物研磨剂，

根据对上述磁性层的表面照射聚焦离子束(FIB；FocusedIonBeam)来获取的二次离子像求出的上述氧化物研磨剂的平均粒径(以下，也记载为“FIB研磨剂直径”。)为0.04μm以上且0.08μm以下，

并且在上述磁性层的面内方向上测量的折射率Nxy与在上述磁性层的厚度方向上测量的折射率Nz的差分的绝对值ΔN(以下，也记载为“(磁性层的)ΔN”。)为0.25以上且0.40以下。

在一方式中，上述氧化物研磨剂可以为氧化铝粉末。