[发明专利]一种光敏植酸基附着力促进剂及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种光敏植酸基附着力促进剂的应用，其特征在于，所述光敏植酸基附着力促进剂运用在光固化金属涂料中；所述光敏植酸基附着力促进剂具有式（1）

结构：

式（1）

其中，R 相互独立地代表-H 或者-CH2CHOHCH2OCOC(CH3)=CH2，并且R

不能同时全为-H，也不能同时全为-CH2CHOHCH2OCOC(CH3)=CH2；所述R 为

-CH2CHOHCH2OCOC(CH3)=CH2 的取代基占R 基团总量的28.36~63.45wt%。

2.如权利要求1 所述的一种光敏植酸基附着力促进剂的应用，其特征在于，

所述光敏植酸基附着力促进剂在光固化金属涂料中的添加量为0.1~10wt%。

3.如权利要求1 或2 所述的一种光敏植酸基附着力促进剂的应用，其特征在于，所述光固化金属涂料的组成包括所述光敏植酸基附着力促进剂、树脂、活性稀释剂、光引发剂和流平剂。

4.如权利要求1 所述的一种光敏植酸基附着力促进剂的应用，其特征在于，所述光敏植酸基附着力促进剂的制备方法为：将植酸水溶液与甲基丙烯酸缩水甘油酯混合，在相转移催化剂和阻聚剂的作用下反应，经纯化后得到所述光敏植酸基附着力促进剂；所述相转移催化剂选自四丁基溴化铵、四丁基氯化铵、苄基三乙基氯化铵或十二烷基三甲基氯化铵，添加量为0.2~5wt。

5.如权利要求4 所述的一种光敏植酸基附着力促进剂的应用，其特征在于，

所述植酸与GMA 的摩尔比为1：3~1：12。

6.如权利要求4 或5 所述的一种光敏植酸基附着力促进剂的应用，其特征在于，所述植酸与GMA 的摩尔比为1：（9~12）。

7.如权利要求4 所述的一种光敏植酸基附着力促进剂的应用，其特征在于，所述阻聚剂选自对苯二酚、间苯二酚、对苯醌或对羟基苯甲醚.，添加量为0.1~0.5wt%。

8.如权利要求4 所述的一种光敏植酸基附着力促进剂的应用，其特征在于，所述反应的温度为25~90℃；所述反应时间为0.5~2 h。

9.如权利要求4 所述的一种光敏植酸基附着力促进剂的制备方法，其特征在于，所述植酸水溶液的浓度为5~80wt%。