[发明专利]一种宽波段光学吸收剂及涂层制备方法

权利要求书

1.一种宽波段光学吸收剂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤:

1〕称取金属氯化物和六亚甲基四胺溶解在溶剂中进行反应；

2〕分离步骤1〕反应产生的沉淀，获得纳米级的金属氢氧化物粉体；金属氯化物和六亚甲基四胺的物质的量比为（2～5）∶24，金属氯化物的物质的量mmol与溶剂的体积mL之比为（2～5）∶400；所述金属氯化物为氯化钴、氯化镍、氯化铁中的一种，或者两种及其以上的混合物；

3〕将步骤2〕获得的金属氢氧化物粉体置于反应器中，反应器内部为无氧环境；向反应器内通入惰性气体和氢气的混合气体，打开微波发生装置，对反应器中的金属氢氧化物粉体进行微波处理，充分反应并冷却后，获得纳米级金属粉体；

4〕保持反应器内的无氧环境，向反应器中通入惰性气体、氢气和碳源气体的混合气体，打开微波发生装置，使得纳米级金属粉体继续反应，获得石墨烯墙包覆的核壳型复合金属粉体；

5〕将石墨烯墙包覆的核壳型复合金属粉体置于大气环境中，通入氩气，打开微波发生装置，使石墨烯墙包覆的核壳型复合金属粉体反应成为石墨烯墙包覆的核壳型复合金属氧化物粉体，即获得宽波段光学吸收剂。

2.根据权利要求1所述的一种宽波段光学吸收剂的制备方法，其特征在于：步骤3〕中，反应器为石英管和石英舟，抽真空10~20min保持石英管内的无氧环境。

3.根据权利要求1所述的一种宽波段光学吸收剂的制备方法，其特征在于：步骤4〕中，保持反应器内的无氧环境，向反应器中通入氩气和氢气混合气体时，氩气流速控制在100~200sccm，氢气流速控制在50~100sccm，并通入生长石墨烯墙的碳源气体甲烷，甲烷气体流速控制在40~80sccm，打开微波发生装置，微波工作频率为2450MHz,输出功率700~1000W,并保持反应时间20~40min，然后关闭氢气和碳源气体，在氩气氛围冷却至室温，从而得到石墨烯墙包覆的核壳型复合金属粉体。

4.根据权利要求1所述的一种宽波段光学吸收剂的制备方法，其特征在于：步骤5〕中，通入氩气时，控制流速在100~200sccm，打开微波发生装置，微波工作频率为2450MHz,输出功率700~1000W,并保持反应时间20~40min，从而得到石墨烯墙包覆的核壳型复合金属氧化物粉体。

5.一种采用权利要求1～4任意一项所述吸收剂的宽波段光学吸收涂层的制备方法，其特征在于：将宽波段光学吸收剂加入到有机硅树脂中，使其分散；再加入钛酸四丁酯混合均匀后，获得用于喷涂的涂层浆料；所述有机硅树脂为甲基乙烯基硅树脂、甲基苯基硅树脂。

6.根据权利要求5所述的一种宽波段光学吸收涂层的制备方法，其特征在于：宽波段光学吸收剂、有机硅树脂和钛酸四丁酯的质量比为（1～2）∶（20～40）∶（1～2）。

7.根据权利要求5或6所述的一种宽波段光学吸收涂层的制备方法，其特征在于：将宽波段光学吸收剂加入到有机硅树脂后，通过高速搅拌机在5000~10000rpm转速下分散1~3h,然后加入钛酸四丁酯混合均匀。

8.根据权利要求7所述的一种宽波段光学吸收涂层的制备方法，其特征在于：将涂层浆料喷涂到基材表面，喷涂的厚度为30~60μm,在室温下放置5~8h后，放入烘箱80~100℃中加热固化1~3h,得到宽波段光学吸收涂层。

9.一种如权利要求1～4任意一项所述方法制备的吸收剂。

10.一种如权利要求5～8任意一项所述方法制备的涂层。