[发明专利]光学设备的聚焦方法及聚焦系统、设备和存储介质

说明书

一种光学设备的聚焦方法及聚焦系统、设备和存储介质，所述光学设备包括光谱采集器，所述聚焦方法包括：获取参考光谱；通过所述光谱采集器采集待测物在不同测试聚焦高度下的测试光谱；获取各个所述测试光谱与所述参考光谱的光谱拟合参数值，所述光谱拟合参数值正相关于或负相关于所述测试光谱与所述参考光谱的误差值；根据所述光谱拟合参数值，提取使误差值最小的所述光谱拟合参数值对应的测试聚焦高度作为第一在焦高度。本发明采用光谱数据的光谱拟合参数值判断待测物是否在焦，从而进行聚焦调节，因此能够在不额外增加硬件模块(例如，检焦模块)的情况下，在保证聚焦精度的同时，提高聚焦效率。

技术领域

本发明实施例涉及光学检测技术领域，尤其涉及一种光学设备的聚焦方法及聚焦系统、设备和存储介质。

背景技术

在光学检测领域中，聚焦的准确性往往直接影响了量测的精度。例如，膜厚测量设备在测量的过程中，对在焦高度极度敏感，需要高精度的在焦高度，否则容易导致量测结果出现误差。另一方面，聚焦速度又直接影响了量测的效率，聚焦时间过长将导致量测效率的变低。

目前一种做法是在光学设备中设置检焦模块，利用检焦模块量测待测物表面的高度，根据待测物表面高度数据实现对焦，但是，这种方法导致量测效率低，且量测精度难以得到显著的提升。而且，检焦模块的配置，相应导致成本较高，且整体的系统较复杂。

发明内容

本发明实施例解决的问题是提供一种光学设备的聚焦方法及聚焦系统、设备和存储介质，在保证聚焦精度的同时，提高聚焦效率。

为解决上述问题，本发明实施例提供一种光学设备的聚焦方法，所述光学设备包括光谱采集器，所述聚焦方法包括：获取参考光谱；通过所述光谱采集器采集待测物在不同测试聚焦高度下的测试光谱；获取各个所述测试光谱与所述参考光谱的光谱拟合参数值，所述光谱拟合参数值正相关于或负相关于所述测试光谱与所述参考光谱的误差值；根据所述光谱拟合参数值，提取使误差值最小的所述光谱拟合参数值所对应的测试聚焦高度，作为第一在焦高度。

相应的，本发明实施例还提供一种光学设备的聚焦系统，包括：参考光谱获取模块，用于获取参考光谱；光谱采集器，用于采集待测物在不同测试聚焦高度下的测试光谱；计算模块，用于获取各个所述测试光谱与所述参考光谱的光谱拟合参数值，所述光谱拟合参数值正相关于或负相关于所述测试光谱与所述参考光谱的误差值；数据处理模块，用于根据所述光谱拟合参数值，提取使误差值最小的所述光谱拟合参数值所对应的测试聚焦高度，作为第一在焦高度。

相应地，本发明实施例还提供一种设备，包括至少一个存储器和至少一个处理器，所述存储器存储有一条或多条计算机指令，其中，所述一条或多条计算机指令被所述处理器执行以实现本发明实施例所述的聚焦方法。

相应地，本发明实施例还提供一种存储介质，所述存储介质存储有一条或多条计算机指令，所述一条或多条计算机指令用于实现本发明实施例所述的聚焦方法。

与现有技术相比，本发明实施例的技术方案具有以下优点：

本发明实施例提供的光学设备的聚焦方法中，通过获取参考光谱、以及待测物在不同测试聚焦高度下的测试光谱，并获取与所述测试聚焦高度一一对应的光谱拟合参数值后，提取使误差值最小的所述光谱拟合参数值所对应的测试聚焦高度，作为第一在焦高度，本发明实施例直接采用光谱数据的光谱拟合参数(Goodness of Fit，GOF)值判断待测物是否在焦，从而对待测物进行聚焦调节，因此，本发明实施例能够在不额外增加硬件模块(例如，检焦模块)的情况下，在保证聚焦精度的同时，提高聚焦效率。