[发明专利]基于回归模型的过程控制方法和系统在审

专利信息
申请号: 202110731707.X 申请日: 2021-06-29
公开(公告)号: CN113552800A 公开(公告)日: 2021-10-26
发明(设计)人: 李晓波 申请(专利权)人: 北京远舢智能科技有限公司
主分类号: G05B13/04 分类号: G05B13/04
代理公司: 北京维正专利代理有限公司 11508 代理人: 李传亮
地址: 101400 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 基于 回归 模型 过程 控制 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种基于回归模型的过程控制方法,其特征在于,包括:

采集生产过程中正常运行工况下的历史样本数据,并基于所述历史样本数据构建控制限:

其中,xK,α为自由度为K、置信度为α的卡方分布所对应的值,Fη,n-η,α表示置信度为α、自由度分别为η与n-η的F分布所对应的值,xh,α表示自由度为h、置信度为α的卡方分布所对应的值,a和τ分别为Q统计量的估计均值和估计方差;

采集目标时长内的样本数据,计算检测统计量ψ、ξ和Q的具体数值:

ξ=eHΛ-1HTeT

Λ=UTU/(n-1)

Q=e(Im-HHT)eT

判断是否满足条件ψ≤ψlim,且ξ≤ξlim,且Q≤Qlim

若是,则说明目标时长内设备运行正常,继续采集下一时刻的样本数据;

若否,则说明目标时长内设备运行故障。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于所述历史样本数据构建控制限包括:

根据所述历史样本数据构成矩阵X∈Rn×m,计算矩阵X中各个列向量的均值μ1、μ2、…、μm并形成均值向量μ=[μ1,μ2,…,μm]T,计算矩阵X中各个列向量的标准差δ1、δ2、…、δm并形成标准差对角矩阵Φ=diag{δ1,δ2,…,δm},其中,n为训练样本数,m为测量变量数,R为实数集,Rn×m为n×m维的实数矩阵;

根据公式对矩阵X实施标准化处理,得到矩阵其中,Ξ∈Rn×m,且Ξ是由n个相同的均值向量μ组成的矩阵,即Ξ=[μ,μ,…,μ]T

记矩阵设置自相关阶数为D,根据Xd=[xd,xd+1,…,xn-D+d-1]T依次构造矩阵X1,X2,…,XD+1,其中,d=1,2,…,D+1,xt为标准化后的第i个数据样本,i=1,2,…,n;

设置潜变量个数为K,计算得到K个潜变量的投影向量w1,w2,…,wK、K个自回归系数θ1,θ2,…,θK以及K个载荷向量p1,p2,…,pK

根据公式Θ=P(WTP)-1计算投影变换矩阵Θ,其中,矩阵W=[w1,w2,…,wK],载荷矩阵P=[p1,p2,…,pK];

利用主元分析算法为更新后的矩阵建立模型:

构建控制限如下:

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