[发明专利]一种光学薄膜材料、柔性防爆膜及其制备方法、电子设备

权利要求书

1.一种光学薄膜材料，其特征在于，包括以下重量份数的原料：

聚甲基丙烯酸甲酯40-70份、聚碳酸酯15-35份、相容剂10-25份以及抗氧剂0.05-1份；

其中，所述相容剂为含甲基丙烯酸苯酯类或者甲基丙烯酸苄酯的共聚型聚甲基丙烯酸甲酯；

其中，所述共聚型聚甲基丙烯酸甲酯的反应单体为甲基丙烯酸甲酯和甲基丙烯酸苯酯/甲基丙烯酸苄酯的混合物；所述甲基丙烯酸甲酯和甲基丙烯酸苯酯/甲基丙烯酸苄酯的质量比为3:7-6:4。

2.根据权利要求1所述的光学薄膜材料，其特征在于，所述相容剂是通过在氮气保护下，将反应单体加入到有机溶剂中混合均匀后升温至60-90℃，加入引发剂继续反应至结束，经沉淀、干燥处理所得。

3.根据权利要求2所述光学薄膜材料，其特征在于，所述反应单体占有机溶剂的比例为30～60％。

4.根据权利要求1所述光学薄膜材料，其特征在于，所述抗氧剂为受阻类抗氧剂或者亚磷酸脂类抗氧剂。

5.一种光学薄膜材料的制备方法，其特征在于，包括：

按照权利要求1所述的光学薄膜材料的原料配方称取各种原料，备用；

将聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、相容剂以及抗氧剂共混均匀后，通过双螺杆挤出机进行熔融共混挤出，得共混料；所述双螺杆挤出机温度为225-290℃，转速为15-100r/min；

将所述共混料输送至单螺杆挤出机中进行挤出成膜，所述单螺杆挤出机的温度为225-285℃，挤出转速为10-100r/min。

6.一种柔性防爆膜，其特征在于，所述柔性防爆膜是以权利要求1-4任一权利要求所述的光学薄膜材料为基材，结合粘接层和离型膜所得。

7.根据权利要求6所述的柔性防爆膜，其特征在于，所述柔性防爆膜从上往下依次包含第一离型膜、第一粘接层、权利要求1-4任一权利要求所述的光学薄膜材料、第二粘接层以及第二离型膜。

8.根据权利要求6或7所述的柔性防爆膜，其特征在于，所述光学薄膜材料的厚度为10～80μm，雾度小于1％，透光率大于90％。

9.一种柔性防爆膜的制备方法，其特征在于，包括：

将权利要求1-4任一权利要求所述的光学薄膜材料经电晕处理后进行一表面粘接液涂布以及烘干处理，使所述光学薄膜材料的表面获得第一粘接层，得第一半成品；

将剥离力为5-20g/f的聚对苯二甲酸乙二酯离型膜贴合在所述第一粘接层表面，使所述第一半成品的表面获得第一离型膜，得第二半成品；

将所述第二半成品中的光学薄膜材料的另一表面进行粘接液涂布以及烘干处理，使所述第二半成品的表面获得第二粘接层，得第三半成品；

将剥离力为20-80g/f的聚对苯二甲酸乙二酯离型膜贴合在所述第二粘接层表面，使所述第三半成品的表面获得第二离型膜，即得。

10.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括权利要求1-4任一权利要求所述的光学薄膜材料。