[发明专利]减反射增透玻璃及制备方法、应用、显示装置、电子设备

权利要求书

1.一种减反射增透玻璃的制备方法，其特征在于，所述方法包括：

提供一玻璃基材；

对所述玻璃基材进行化学强化工艺处理，得到强化玻璃基材；

对所述强化玻璃基材进行预处理；

将预处理后的所述强化玻璃基材放入蚀刻液中进行浸泡蚀刻，以在所述强化玻璃基材的至少一侧形成仿生蛾眼结构。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述将预处理后的所述强化玻璃基材放入蚀刻液中进行浸泡蚀刻的步骤之前，所述方法还包括：

对所述强化玻璃基材不需蚀刻的部位采取隔离保护。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述将预处理后的所述强化玻璃基材放入蚀刻液中进行浸泡蚀刻的步骤之后，所述方法还包括：

在所述仿生蛾眼结构上蒸镀形成一层含氟材料涂层。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，

所述含氟材料包括：乙基全氟代丁基醚，乙基全氟代异丁基醚，七氟丙氧基(聚(全氟环氧丙烷))四氟丙基丙氧基三甲氧基硅烷中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述化学强化工艺为二步法离子交换浴；

所述离子交换法中，按质量百分比计，第一步离子交换浴的熔融盐包括60％～90％的硝酸钠和10％～40％硝酸钾，第一步离子交换浴的温度为365～385℃，第一步离子交换浴的时间为9～11小时，第二步离子交换浴的熔融盐包括0％～20％的硝酸钠和80％～100％硝酸钾，第二步离子交换浴的温度范围为415～425℃，第二步离子交换浴的时间为1.5～3小时。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，

第一步离子交换浴后，所述玻璃基材的表面压应力为300～500MPa，应力压缩层深度为30～50um；

第二步离子交换浴后，所述玻璃基材的表面压应力为760～950MPa，应力压缩层深度为45～50um。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述对所述强化玻璃基材进行预处理的步骤包括：

将清洗后的所述强化玻璃基材放入温度为35～55℃的预处理液中进行浸泡30～60秒；

其中，按质量百分比计，所述预处理液包括：10～30％的醋酸、1～10％的氟化铵、10～30％的磷酸、以及余量的纯水。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述将预处理后的所述强化玻璃基材放入蚀刻液中进行浸泡蚀刻的步骤包括：

将预处理后的所述强化玻璃基材放入温度为30～50℃的蚀刻液中进行浸泡10～50秒；

其中，按质量百分比计，所述蚀刻液包括：20～40％的醋酸、5～20％的氟化铵、0.1～5％的氢氟酸、1～10％的磷酸、以及余量的纯水。

9.一种减反射增透玻璃，其特征在于，包括：

强化玻璃基材；

仿生蛾眼结构，形成在所述强化玻璃基材的至少一侧；

所述仿生蛾眼结构用于在500nm～599nm波长范围内降低光反射率并提升光透过率，所述仿生蛾眼结构为阵列排布的圆锥体，所述圆锥体的底部直径20～50nm，高20～50nm，相邻圆锥体之间的间距为20～50nm。

10.根据权利要求9所述的减反射增透玻璃，其特征在于，

所述减反射增透玻璃的表面压应力为760～950MPa，应力压缩层深度为45～50um。

11.根据权利要求9所述的减反射增透玻璃，其特征在于，所述减反射增透玻璃还包括：

含氟材料涂层，形成在所述仿生蛾眼结构上；

所述含氟材料涂层的厚度为30～100nm；

所述含氟材料包括：乙基全氟代丁基醚，乙基全氟代异丁基醚，七氟丙氧基(聚(全氟环氧丙烷))四氟丙基丙氧基三甲氧基硅烷中的至少一种。