[发明专利]有机锡氧化物氢氧化物图案化组合物、前驱物及图案化

权利要求书

1.一种用于形成可辐射图案化涂层的方法，所述可辐射图案化涂层包含具有金属阳离子的氧代-羟基网状结构，所述金属阳离子具有含有金属碳键和金属氧键的有机配位体，所述方法包含

将包含一组合物的第一前驱物蒸气输入至经封闭与环境氛围隔离的沉积腔室中，所述组合物由式R_nSnX_4-n表示，其中n＝1或2，其中R为具有结合至Sn的1-31个碳原子含有金属-碳键的有机配位体，且X为具有与Sn的可水解键的配位体，和

依序或同时输入第二前驱物蒸气，所述第二前驱物蒸气包含能够在所述沉积腔室中的条件下与所述第一前驱物蒸气中的组合物反应的含氧化合物，以形成具有以下组分的组合物：包含具有X配合基或配位体的反应产物的非挥发性组分和挥发性组分，其中基板配置有一表面以接收所述组合物的非挥发性组分。

2.根据权利要求1所述的方法，其中该第二前驱物蒸气包含水蒸气。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述沉积腔室具有0.01托至25托的压力。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中所述沉积腔室具有40℃至175℃的温度。

5.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中，将所述第一前驱物蒸气的输入和所述第二前驱物蒸气的输入重复至少一次以具有第二沉积循环。

6.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其进一步包括在输入前驱物蒸气的各循环之间输入惰性冲洗气体的步骤。

7.根据权利要求6的方法，其中所述惰性冲洗气体是氮气或氩气。

8.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中分别将第三前驱物输入至所述腔室中，所述前驱物包含ML_v，其中v为2≤v≤6且L为可氧化配位体或具有可水解M-L键的配位体或其组合，且M为选自周期表的第2族至第16族的金属。

9.根据权利要求1或3所述的方法，其中所述含氧化合物包括水蒸气、过氧化氢、臭氧、氧气、醇或其组合。

10.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，还包括调节沉积腔室中的压力。

11.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中输入第一前驱物蒸气包括产生第一前驱物蒸气流，从包含第一前驱物组合物的液体产生气溶胶，将液体注入汽化腔室，闪蒸所述第一前驱物蒸汽的组合物，和/或使惰性载气鼓泡通过包含第一前驱物蒸气的组合物的液体，其中形成第一前驱物蒸气，并且其中在输入步骤之后通过CVD工艺形成可辐射图案化薄膜。

12.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中输入第二前驱物蒸气包括产生第二前驱物蒸气流，从包含第一前驱物组合物的液体产生气溶胶，将液体注入汽化腔室，闪蒸第一前驱物蒸气的组合物，和/或使惰性载气鼓泡通过包含第一前驱物蒸气的组合物的液体，其中形成第一前驱物蒸气，并且其中在输入步骤之后通过CVD工艺形成可辐射图案化薄膜。

13.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中R是甲基、乙基、异丙基、正丁基、仲丁基或叔丁基。