[发明专利]一种镂雕丝光釉面砖及其生产方法

权利要求书

1.一种镂雕丝光釉面砖，由瓷质砖砖坯素烧后布施底釉、在底釉上布施面釉后烘干、用数码喷墨打印机打印颜色墨水和功能墨水后并烘干、喷施保护釉后烧成所得；其特征在于：以质量百分比计，所述的面釉原料配方组成为：5009熔块49±3％、硅酸锆14±2％、煅烧氧化铝15±2％、硅灰石粉5±1％、煅烧滑石粉4±1％、煅烧高岭土2±0.2％、球土粉7±2％、气刀土3±1％；所述保护釉原料配方组成为：74％～86％的透明哑光熔块、氧化锌10±2％、煅烧高岭土2±0.5％、气刀土6±2％、球土3±0.5％。

2.根据权利要求1所述的镂雕丝光釉面砖，其特征在于，所述的镂雕丝光釉面砖的纹理凹深为60～75um，纹理精细度在400分辨率下最小达6个像素单位，纹理线条的边界在400分辨率下清晰分明。

3.根据权利要求1所述的镂雕丝光釉面砖，其特征在于，以质量百分比计，所述的透明哑光熔块由3019熔块62±3％、3082熔块11±2％、3008熔块7±1％组成。

4.根据权利要求1所述的镂雕丝光釉面砖，其特征在于，所述的底釉化学成分质量百分比组成为：三氧化二铝5.3±0.3％、二氧化硅61.0±1％、氧化铁0.2±0.01％、氧化钙18.5±0.2％、氧化镁1.3±0.2％、氧化钾2.5±0.2％、氧化钠1.0±0.1％、二氧化钛10.0±0.5％、氧化锌1.0±0.2％、氧化钡1.0±0.2％、烧失0.5±0.2％。

5.根据权利要求1所述的镂雕丝光釉面砖，其特征在于，以质量百分比计，所述的精雕墨水化学成分质量百分比组成为灼烧减量56.0±2％、三氧化二铝3.5±0.2％、二氧化硅25.0±0.5％、三氧化二铁0.1±0.01％、氧化钙8.0±0.2％、氧化钾1.5±0.2％、氧化钠0.08±0.02％、二氧化钛0.05±0.01％、五氧化二磷0.05±0.01％、氧化锌5.0±0.2％、一氧化铅0.01±0.002％、三氧化硫0.01±0.002％、三氧化二硼0.05±0.01％、氟0.05±0.01％、氧化锂0.01±0.002％、氧化锶0.01±0.002％、一氧化锰0.01±0.002％、氧化镉0.01±0.002％、三氧化二铬0.01±0.002％、一氧化镍0.01±0.002％、一氧化钴0.01±0.002％、氧化铜0.01±0.002％、氧化铷0.01±0.002％、氧化铯0.01±0.002％。

6.根据权利要求1所述的镂雕丝光釉面砖，其特征在于，以质量百分比计，所述的保护釉配方化学成分质量百分比组成为：三氧化二铝15.0±0.5％、二氧化硅59.0±2％、氧化钾1.5±0.2％、氧化纳3.0±0.2％、氧化钙6.0±1％、氧化镁1.0±0.2％、氧化锌7.0±1％、氧化硼1.2±0.2％、氧化钡4.5±0.2％、氧化锶1.0±0.2％、烧失0.5±0.2％。

7.根据权利要求1所述的镂雕丝光釉面砖，其特征在于，以质量百分比计，所述面釉化学成分组成为：三氧化二铝29±2％、二氧化硅42±2％、氧化铁0.2±0.01％、氧化钙8±0.5％、氧化镁2±0.5％、氧化钾2±0.2％、氧化钠1.0±0.1％、氧化锌6.5±0.2％、氧化硼7±0.2％、烧失0.5±0.2％。

8.根据权利要求1所述的镂雕丝光釉面砖，其特征在于，所述颜色墨水包括蓝色墨水、棕色墨水、包裹黄色墨水、包裹红色墨水、黑色墨水和绿色墨水；所述功能墨水包括亮光墨水和精雕墨水中的一种或两种。