[发明专利]以带电粒子束系统进行高速热点或缺陷成像

权利要求书

1.一种检验工具，其包括：

电子束产生器单元，其经配置以产生电子束；

载物台，其经配置以夹持晶片；

至少一个致动器，其经配置以移动所述载物台；

电子束光学器件，其经配置以将所述电子束引导于所述晶片的表面处；

检测器，其经配置以检测来自所述电子束的电子；及

控制器，其至少与所述电子束光学器件及所述致动器电子通信，其中所述控制器经配置以：

接收包含待由所述电子束扫描所述晶片的扫描带中的至少两个所关注区域的指令；

产生所述电子束的扫描模式以使所述晶片上的所述所关注区域成像，其中所述扫描模式最小化所述电子束在所述晶片的所述表面上所述所关注区域之间的驻留时间以及经设计以最大化所述电子束使所述所关注区域成像的时间百分比，且其中所述控制器基于所述扫描带中的所述所关注区域选择至少一个载物台速度及至少一个光栅模式；以及

将指令发送到所述电子束光学器件以使用所述扫描模式将所述电子束引导于所述晶片的所述表面上的所述区域处。

2.根据权利要求1所述的检验工具，其中所述电子束光学器件经配置以使所述电子束在两个垂直方向上扫描跨越所述晶片的所述表面。

3.根据权利要求1所述的检验工具，其中所述载物台经配置以在两个垂直方向上移动。

4.根据权利要求1所述的检验工具，其中所述控制器经配置以发送指令以在所述电子束光学器件扫描所述电子束时移动所述载物台。

5.根据权利要求1所述的检验工具，其中所述控制器进一步经配置以使用所述晶片上的参考点以产生用于所述晶片的所述扫描模式。

6.根据权利要求1所述的检验工具，其中所述控制器进一步经配置以产生所述扫描模式以捕获所述所关注区域同时最小化检验时间。

7.一种方法，其包括：

产生电子束的扫描模式以使晶片的扫描带中的至少两个所关注区域成像，其中所述扫描模式最小化所述电子束在所述晶片的表面上所述所关注区域之间的驻留时间以及经设计以最大化所述电子束使所述所关注区域成像的时间百分比，且其中基于所述扫描带中的所述所关注区域针对所述扫描模式选择至少一个载物台速度及至少一个光栅模式；以及

使用所述扫描模式将所述电子束引导于所述晶片的所述表面上。

8.根据权利要求7所述的方法，其进一步包括移动夹持所述晶片的载物台。

9.根据权利要求8所述的方法，其中所述移动经配置为在两个垂直方向上。

10.根据权利要求8所述的方法，其中所述移动及所述引导是循序的。

11.根据权利要求8所述的方法，其中所述移动及所述引导是同时的。

12.根据权利要求8所述的方法，其中所述移动在所述引导期间处于恒定速度。

13.根据权利要求8所述的方法，其中所述晶片进一步包括不同扫描带中的至少一个所关注区域，且其中在所述移动期间，扫描发生于所述晶片的所述不同扫描带中。

14.根据权利要求8所述的方法，其中所述移动及所述引导相对于彼此不成法向角。

15.根据权利要求14所述的方法，其中所述移动及所述引导相对于彼此成45°角。

16.根据权利要求7所述的方法，其中所述引导经配置为在两个垂直方向上。