[发明专利]掩模板结构及掩模板结构的制备方法

权利要求书

1.一种掩模板结构，其特征在于，所述掩模板结构包括掩模板框架及对位掩模条；

其中，所述掩模板框架包括相对设置的第一表面和第二表面，所述第一表面为在蒸镀过程中与待蒸镀基板相对的表面，所述掩模板框架的第一表面上间隔设置有多个对位凹槽；

其中，所述对位掩模条包括支撑部和异形对位部，所述异形对位部包括位于所述对位凹槽内的对位块以及分别从所述对位块的两端往所述第一表面的方向延伸的连接块，所述对位块通过所述连接块与所述支撑部连接，所述支撑部位于所述第一表面；

所述掩模板结构还包括精细金属掩模和支撑架，所述支撑架用于支撑所述精细金属掩模，所述精细金属掩模和所述支撑架固定于所述掩模板框架上位于所述对位凹槽的一侧。

2.根据权利要求1所述的掩模板结构，其特征在于，所述对位块在垂直于所述第一表面的方向上的厚度小于所述对位凹槽的深度。

3.根据权利要求1所述的掩模板结构，其特征在于，在垂直于所述第一表面的方向上，所述对位块靠近所述第一表面的一侧与所述第一表面之间的距离d≠k*λ/n，其中，k为消光系数，λ为波长，n为折射率。

4.根据权利要求1所述的掩模板结构，其特征在于，所述对位块与所述对位凹槽的侧边缘之间存在间隙。

5.根据权利要求1所述的掩模板结构，其特征在于，所述对位凹槽的底面设置有第一焊接区，所述对位块设置有与所述第一焊接区对应的第二焊接区，所述对位块通过所述第一焊接区和所述第二焊接区固定于所述对位凹槽的底面。

6.一种掩模板结构的制备方法，其特征在于，所述方法包括：

提供掩模板框架，所述掩模板框架包括相对设置的第一表面和第二表面，所述第一表面为在蒸镀过程中与待蒸镀基板相对的表面；

从所述掩模板框架的第一表面上形成多个往所述第二表面凹陷的对位凹槽；

制作形成具有与分别各所述对位凹槽对应的异形对位部的对位掩模条，相邻的异形对位部之间形成支撑所述异形对位部的支撑部，所述异形对位部包括对位块以及分别从所述对位块的两端延伸至所述支撑部的连接块；

将所述对位块固定设置于所述对位凹槽内，以使得所述连接块分别从所述对位块的两端往所述第一表面的方向延伸，所述对位块通过所述连接块与所述支撑部连接，所述支撑部与所述第一表面接触；

提供精细金属掩模和支撑架，所述支撑架用于支撑所述精细金属掩模，所述精细金属掩模和所述支撑架固定于所述掩模板框架上位于所述对位凹槽的一侧。

7.根据权利要求6所述的掩模板结构的制备方法，其特征在于，制作形成具有与分别各所述对位凹槽对应的异形对位部的对位掩模条，包括：

提供一掩模条本体；

从所述掩模条本体的第一表面与所述对位凹槽对应的位置进行第一刻蚀工艺，形成分别与所述对位凹槽对应的刻蚀槽；

从所述掩模条本体的第二表面位于所述刻蚀槽周侧的位置进行第二刻蚀工艺，使所述刻蚀槽对应的位置形成所述异形对位部，所述第二表面与所述第一表面相对。

8.根据权利要求6所述的掩模板结构的制备方法，其特征在于，制作形成具有与分别各所述对位凹槽对应的异形对位部的对位掩模条，包括：

提供一具有与所述对位掩模条的形状相匹配的电铸模具；

基于所述电铸模具进行金属电铸，形成具有所述异形对位部所述对位掩模条。

9.根据权利要求6-8任意一项所述的掩模板结构的制备方法，其特征在于，所述方法还包括：

在将所述对位块固定设置于所述对位凹槽内之后，对所述对位掩模条进行切割，去除所述支撑部以及所述连接块。