[发明专利]一种新型的光刻显影工艺

权利要求书

1.一种新型的光刻显影工艺，包括显影工序，其特征在于，显影工序包括如下步骤：

1）将去离子水喷嘴从圆片一侧移动到圆片上方，并旋转圆片，喷洒去离子水进行去离子水预浸润；

2）在去离子水预浸润后，保持圆片旋转，去离子水喷嘴复位，接着一边将显影液喷嘴从圆片一侧向圆片中心移动，一边喷洒显影液，对经去离子水预浸润的圆片进行显影液预浸润；

3）在显影液喷嘴移动到圆片中心上方后，降低圆片转速，继续喷洒显影液，在圆片表面形成显影液覆盖后，显影液喷嘴复位，同时进行显影反应；

4）显影反应结束后，将去离子水喷嘴从圆片一侧移动到圆片上方，喷洒去离子水清洗圆片表面，同时提高圆片转速；

5）在清洗完毕后，继续喷洒去离子水，并使经清洗的圆片降低转速，在圆片表面形成水膜后停止喷洒；

6）待去离子水喷嘴复位后，提高圆片转速进行甩干。

2.根据权利要求1所述的新型的光刻显影工艺，其特征在于，步骤5）中，圆片的转速为30-100转/分钟。

3.根据权利要求1所述的新型的光刻显影工艺，其特征在于，步骤6）中，圆片的转速为2500-4000转/分钟，持续时间为10-20秒。