[发明专利]结构色膜及其制作方法

权利要求书

1.一种结构色膜，其特征在于，包括基材以及设置于所述基材上的至少一组结构层；

其中，每组所述结构层均包括有机固化涂层和无机透光镀层，所述有机固化涂层和所述无机透光镀层的厚度范围均为10纳米至500纳米。

2.根据权利要求1所述的结构色膜，其特征在于，所述有机固化涂层和所述无机透光镀层的均匀度误差范围均不超过10％。

3.根据权利要求1所述的结构色膜，其特征在于，所述基材的材质包括聚对苯二甲酸乙二酯、三乙酰纤维素、聚甲基丙烯酸甲酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚酰亚胺、聚乙烯、聚丙烯、聚乙烯醇、聚氯乙烯、环烯烃共聚物及环烯烃聚合体中至少一种。

4.根据权利要求1所述的结构色膜，其特征在于，所述基材的光穿透率大于80％；

所述基材的厚度范围为10微米至500微米。

5.根据权利要求1所述的结构色膜，其特征在于，所述有机固化涂层为有机高分子材料涂层或有机高分子材料及纳米粒子混合涂层；

所述有机固化涂层的折射率范围为1.1至1.65；

所述无机透光镀层为纳米级无机材料镀层；

所述无机透光镀层的折射率范围为1.1至1.7。

6.根据权利要求5所述的结构色膜，其特征在于，所述有机固化涂层为丙烯酸酯化合物、光固化树脂、光起始剂及纳米金属氧化物颗粒混合涂层；

或者，所述有机固化涂层为双酚F型环氧树脂、稀释剂、双氰胺固化剂、咪唑促进剂及空心二氧化硅颗粒混合涂层；

所述无机透光镀层为氧化硅镀层、氟化镁镀层、二氧化钛镀层及二氧化锆镀层中任一种。

7.根据权利要求1所述的结构色膜，其特征在于，所述无机透光镀层设置于所述有机固化涂层上；

或者，所述有机固化涂层设置于所述无机透光镀层上。

8.一种结构色膜的制作方法，其特征在于，所述方法包括：

准备一基材；

在所述基材上设置至少一组结构层，其中，每组所述结构层均包括有机固化涂层和无机透光镀层，所述有机固化涂层和所述无机透光镀层的厚度范围均为10纳米至500纳米。

9.根据权利要求8所述的结构色膜的制作方法，其特征在于，所述结构层的制作步骤，包括以下任一：

先在所述基材上镀上无机透光镀层，再在所述无机透光镀层上涂覆有机固化涂层；

先在所述基材上涂覆有机固化涂层，再在所述有机固化涂层上镀上无机透光镀层。

10.根据权利要求9所述的结构色膜的制作方法，其特征在于，所述先在所述基材上镀上无机透光镀层，再在所述无机透光镀层上涂覆有机固化涂层的步骤，包括：

将纳米级无机材料通过真空测控溅射、电镀或者蒸镀方式设置于所述基材上，形成所述无机透光镀层；

将有机高分子材料，或者有机高分子材料与纳米粒子形成的混合材料，涂布于无机透光镀层上，进行紫外固化处理或热固化处理，形成所述有机固化涂层。