[发明专利]原子气室的加工设备、加工方法和原子钟

权利要求书

1.一种原子气室的加工设备，其特征在于，包括掩膜板和定位组件，其中，所述掩膜板与所述定位组件可拆卸连接，所述掩膜板朝向所述定位组件的一侧设置有N个线形镂空槽，所述定位组件设置有N个容置槽，所述容置槽与原子气室适配；所述N个线形镂空槽与所述N个容置槽一一对应，且所述线形镂空槽在定位组件上的垂直投影，位于对应的所述容置槽内；N为正整数；

其中，在所述容置槽容置有原子气室的情况下，对所述容置槽内容置的原子气室的目标端面进行镀膜处理，以使所述目标端面形成与线形镂空槽匹配的加热线条。

2.根据权利要求1所述的原子气室的加工设备，其特征在于，所述线形镂空槽包括第一端、第二端和第一中间节点，所述线形镂空槽的第一端至所述第一中间节点的部分围合形成第一U型结构，所述线形镂空槽的第二端至所述第一中间节点的部分围合形成第二U型结构。

3.根据权利要求1所述的原子气室的加工设备，其特征在于，所述容置槽的深度小于或等于所述原子气室的高度。

4.根据权利要求1所述的原子气室的加工设备，其特征在于，所述N个线形镂空槽均匀间隔设置于所述掩膜板上。

5.根据权利要求1所述的原子气室的加工设备，其特征在于，所述定位组件和所述掩膜板中的一者包括至少两根定位柱，另一者包括至少两个定位孔，所述至少两根定位柱与所述至少两个定位孔一一对应且配合。

6.一种原子气室的加工方法，应用于如权利要求1～5中任一项所述的原子气室的加工设备，其特征在于，包括：

对原子气室的目标端面进行磨抛处理；

将所述原子气室设置于所述原子气室的加工设备的容置槽内，以使所述目标端面与所述原子气室的加工设备的掩膜板贴合；

对所述掩膜板进行镀膜处理，以在所述磨抛处理后的目标端面上形成与所述掩膜板的线形镂空槽匹配的加热线条。

7.根据权利要求6所述的加工方法，其特征在于，所述加热线条包括第三端、第四端和第二中间节点，所述第三端至所述第二中间节点的部分围合形成第三U型结构，所述第四端至所述第二中间节点的部分围合形成第四U型结构。

8.一种原子钟，包括原子气室，其特征在于，所述原子气室的目标端面经如权利要求6～7中任一项所述的原子气室的加工方法处理，形成与所述掩膜板的线形镂空槽匹配的加热线条，所述加热线条用于对所述原子气室加热。

9.根据权利要求8所述的原子钟，其特征在于，所述加热线条包括第三端、第四端和第二中间节点，所述加热线条的第三端至所述第二中间节点的部分围合形成第三U型结构，所述加热线条的第四端至所述第二中间节点的部分围合形成第四U型结构。